10.3. Особенности создания инверсной населенности уровней
Идеальным
было бы состояние (рис. 10.9), когда верхние уровни в области 2 полностью заполнены
электронами проводимости а нижние в области 1 полностью свободны от валентных
электронов, т. е. полностью заполнены дырками. В этом случае инверсия населенности
была бы наибольшей.
Формально полупроводник, в котором большинство уровней в области 2 зоны проводимости занято электронами, а в области 1 валентной зоны — дырками, можно назвать вырожденным одновременно для электронов и дырок, в то время как обычно удается создать либо электронные, либо дырочные вырожденные полупроводники. Предположим, что в такой полупроводник попадает фотон с энергией hv, большей ширины запрещенной зоны ΔW0, но меньшей ΔW— величины, соответствующей границам областей 2 и 1, заполненных электронами и дырками:
(10.34)
При этом условии будут происходить вынужденные переходы из области 2 в область 1 с испусканием новых фотонов. Если энергия падающего фотона hv>ΔW, то начнется поглощение квантов и возникнут переходы из области 3 валентной зоны, где есть валентные электроны, на свободные уровни области 4 зоны проводимости.
Рис.10.9.
Состояние энергетических уровней
В вырожденном электронном полупроводнике верхняя граница заполненной электронами области 2 в зоне проводимости приблизительно совпадает с уровнем Ферми для электронов WFn, а в вырожденном дырочном нижняя граница заполненной дырками области 1 в валентной зоне — с уровнем Ферми для дырок WFp. Поэтому
(10.35)
и условие (10.34) для получения вынужденного излучения запишем в виде
. (10.36)
Вынужденное излучение будет появляться при воздействии фотонов с энергией, заключенной в пределах от h×vmax=DW0 до h×vmax = DW0 = WFn - WFp. Такие фотоны всегда есть в полупроводнике вследствие процесса рекомбинации электронов и дырок. Рекомбинационное излучение имеет спонтанный характер, т. е. фотоны распределены хаотически, по времени, направлению и поляризации. «Спонтанные» фотоны вызывают вынужденное излучение, однако для получения самовозбуждения необходимо обеспечить многократное прохождение излучения через среду с инверсией населенности. Достигается это созданием отражающих поверхностей на торцах полупроводникового образца.
В полупроводниковых лазерах можно получить очень большую инверсию населенностей и высокое усиление на единицу длины вследствие высокой концентрации частиц в твердом теле. Поэтому длину образца полупроводника можно уменьшить до долей миллиметра, а требования к величине коэффициента отражения зеркал снизить.
В полупроводниках возможны следующие методы получения инверсии населенностей: инжекция носителей через р—n-переход (инжекционные лазеры), электронная накачка и оптическая накачка. Наибольшее распространение получил метод инжекции носителей.