10.3. Полупроводниковый инжекционный лазер на гомопереходе, устройство, применение
|
|
а) |
б) |
Энергетическая диаграмма для случая, когда к p-n-переходу приложено прямое напряжение u0, показана на рис. 10.10,б. Понижение потенциального барьера на величину U0 увеличивает поток электронов из n-области и поток дырок из р-области через переход. Через p-n-переход потечет ток, и вблизи перехода установится некоторое распределение концентрации неравновесных носителей заряда.
Известно, что при неравновесном состоянии теряет смысл понятие уровня Ферми. Однако для определения полной концентрации носителей в неравновесном состоянии можно воспользоваться прежними формулами, если вместо уровней Ферми ввести квазиуровни Ферми для электронов и дырок. Вдали от перехода (см. рис. 10.10,6), где сохраняется равновесное состояние, применимы обычные уровни Ферми WFn и WFp. В области перехода, где имеются неравновесные носители, существуют два квазиуровня Ферми -для электронов W'Fn и для дырок W'Fр. Обычно предполагают, что в пределах перехода до пересечения линии WFn с границей зоны проводимости величины WFn и W'Fn мало отличаются. Аналогичное предположение делают и для уровней WFp и W'Fp. Далее кривая квазиуровня электронов W'Fn опускается и сливается с уровнем Ферми WFp. Соответственно кривая квазиуровня для дырок W'Fр поднимается и сливается с уровнем Ферми WFn.
В некоторой области перехода с шириной δ одновременно велико число электронов проводимости в группе уровней ΔW пр и дырок в группе уровней ΔWв . Поэтому в области δ распределение носителей зарядов подобно распределению их на рис. 10.10, и в ней можно получить инверсную населенность. В этой области перехода наблюдается наиболее интенсивная излучательная рекомбинация электронов и дырок, так как скорость рекомбинации пропорциональна произведению концентраций электронов и дырок, а они в рассматриваемой области велики. Рекомбинация электронов и дырок в переходе сопровождается спонтанным излучением с энергией, большей ширины запрещенной зоны hv > δ W0.
С увеличением внешнего напряжения u0 растут концентрации электронов и дырок в области δ перехода и, следовательно, увеличивается инверсия населенностей. При некотором пороговом напряжении (пороговом токе), когда вынужденное излучение, вызванное спонтанным излучением, достаточно для компенсации потерь света в материале полупроводника и в отражающих поверхностях, наступит генерация. Таким образом, p-n-переход при малых токах является источником спонтанного (рекомбинационного) излучения (светодиод), а при токах более порогового - источником когерентного излучения (лазер).
Пороговое значение тока сильно зависит от температуры и концентрации примесей. Понижение температуры облегчает вырождение полупроводника и, следовательно, уменьшает пороговый ток. Лазеры на арсениде галлияна гомопереходах обычно работают при температуре жидкого гелия 4,2 К или жидкого азота 77 К. В настоящее время появились инжекционные лазеры, работающие при комнатной температуре. Экспериментально установлено, что изменение температуры от 4,2 К до комнатной может привести к увеличению плотности порогового тока до 100 раз. При комнатной температуре необходима плотность порогового тока до 105 А/см2.
Широкое распространение получил инжекционный лазер на основе вырожденного арсенида галлия (GaAs), конструкция которого показана на рис. 10.11. Две грани полупроводника перпендикулярны плоскости p-n-перехода и образуют после полировки зеркала резонатора. Две другие грани наклонены к плоскости р-n-перехода, чтобы не создавать в этом направлении условий для самовозбуждения. Размеры сторон полупроводника порядка нескольких десятых долей миллиметра. Излучение выходит из узкой области p-n-перехода перпендикулярно параллельным граням полупроводника.
Излучение
инжекционного лазера имеет большую угловую расходимость вследствие дифракционных
явлений в резонаторе. Пустьтолщина области p-n-перехода, в которой происходит
генерация, δ = 1 мкм, а расстояние
между зеркалами L = 0,1 мм. Оценки показывают, что для этого примера угловая
расходимость составляет 5. . .6°. Однако в другой плоскости (в плоскости p-n-перехода)
угловая расходимость значительно меньше (примерно 1°) из-за большего размера
области излучения.
Спектр излучения инжекционного лазера зависит от выходной мощности, которая, в свою очередь, определяется плотностью тока через p-n-переход. Когда плотность тока незначительно превышает пороговую плотность тока, имеется только одна мода с шириной линии излучения около 0,05 нм и длиной волны λ = 0,84 мкм, соответствующей ИК-диапазону. С ростом плотности тока число мод увеличивается. Частота генерируемых мод зависит от температуры, так как последняя влияет на коэффициент преломления кристалла и ширину запрещенной зоны. При изменении температуры возможен «перескок» от одной моды к другой. Поэтому долговременная стабильность частоты оказывается гораздо меньше, чем у газовых лазеров. Следует отметить, что излучение инжекционных лазеров поляризовано.
Рис. 10.11. Конструкция инжекционного лазера на основе вырожденного арсенида галлия
Коэффициент полезного действия полупроводникового лазера η, определяемый как отношение мощности генерируемого излучения к мощности накачки, в первом приближении может быть определен формулой
где ηвнутр - внутренний квантовый выход рекомбинационного излучения. Он учитывает то, что не все электроны рекомбинируют с излучением кванта света (излучательная рекомбинация), а часть электронов рекомбинирует без излучения кванта света (безызлучательная рекомбинация). Отношение ΔW0/qU0 учитывает то обстоятельство, что энергия полученного кванта света приблизительно равна ширине запрещенной зоны ΔW0, а энергия, которую нужно затратить, чтобы ввести из внешней цепи электрон и дырки, равна qU0. Правильный выбор степени легирования и использование чистых материалов позволяет получить ηвнутр близким к единице, поэтому КПД инжекционных лазеров теоретически должен быть также близким к единице. У реальных лазеров он меньше. Это объясняется следующими причинами. Во-первых, часть электронов, двигающихся в р-n-переходе, вследствие большой длины свободного пробега проходит активную область, не участвуя в создании вынужденного излучения. Во-вторых, генерируемое световое излучение распространяется не только в активной области, но и рядом с ней, где отсутствует инверсия населенностей, и, следовательно, происходит поглощение излучения. Кроме этих причин имеется потеря мощности источника питания, связанная с прохождением тока через области и контакты. Тем не менее у лазеров, изготовленных из арсенида галлия, при охлаждении жидким азотом получен КПД 70...80 %.
Особенностью
полупроводниковых лазеров является сильная зависимость от температуры КПД
и мощности. Это объясняется рядом причин. Во-первых, с ростом температуры
растет доля безызлучательной рекомбинации, что приводит к снижению ηвнутр, во-вторых, снижается
разность населенностей уровней.
Полупроводниковые лазеры имеют высокий КПД, малые размеры, возможность легкой модуляции до очень высоких частот. Однако они, как правило, требуют охлаждения, имеют широкий спектр излучения и большой угол расходимости.
Особое место занимают лазеры в области связи. Инжекционные лазеры находят применение в "коротких" открытых линиях связи и в волоконно-оптических линиях.