Обозначим
концентрацию донорной примеси Nд. Так как ее энергия
ионизации DWn очень невелика
(DWn » 0,01 эВ), то при комнатной и даже
более низкой температуре практически все примесные атомы оказываются ионизированными;
кроме того, согласно соотношению (2.4), ионизируется некоторая часть атомов
основного вещества n*i. Таким образом, концентрация
электронов проводимости в полупроводнике с донорной примесью
nn = Nд + n*i,
(2.6)
т.е.
она больше, чем в беспримесном полупроводнике. Обычно концентрация донорной
примеси N ³ n*i и
nn » Nд
(2.7)
Поскольку
скорость рекомбинации носителей заряда в полупроводнике пропорциональна концентрации
электронов и дырок:
vрек = g
γ×nn ×pn,
а
скорость генерации при малых концентрациях примеси остается той же, что
и в собственном полупроводнике:
vгeн = ×ni2,
то при динамическом равновесии, когда vгeн = vрeк,
vгeн = ni2
Отсюда
равновесная концентрация дырок в примесном полупроводнике:
pn =ni2/nn =ni2/Nд. (2.8)
т.
е. она значительно ниже, чем в беспримесном полупроводнике.
Положение
уровня Ферми WF в полупроводнике n-типа можно определить
с помощью соотношений (2.1) и (2.4). Для частичной ионизации примесей получаем
(2.9)
При
Т=0 К уровень Ферми находится посередине между дном зоны проводимости Wпр и уровнем доноров Wn, а с повышением температуры
он постепенно смещается к середине запрещенной
зоны.
4.2.2.Полупроводник
с акцепторной примесью
Пусть
концентрация акцепторов равна Na. Так как акцепторные
атомы при комнатной температуре практически все ионизированы, то концентрация
дырок
pp= Na+ pi*,
(2.10)
где
pi* — концентрация дырок, обусловленная ионизацией атомов основного
вещества.
Концентрация электронов определяется соотношением, аналогичным
(2.8):
pi* £ Na и
pp » Na
(2.11)
Положение
уровня Ферми WFp в полупроводнике p-типа определяется соотношением, аналогичным (2.9):
(2.12)
При
Т=0 К уровень Ферми находится между потолком валентной зоны Wв и уровнем акцепторов
Wp, с повышением температуры он смещается к середине запрещенной
зоны.