ЛЕКЦИЯ 13

ВАКУУМНЫЕ КОММУТАЦИОННЫЕ ПРИБОРЫ И ВАКУУМНЫЕ КОНДЕНСАТОРЫ

 

Буц Виктор Петрович, д.т.н., профессор. После окончания Таганрогского радиотехнического института в 1975 г. трудился в нем ассистентом кафедры «Радиотехническая электроника».

С 1960 г. работает в Пензенском ФГУП «НИИ электронно-механических приборов» старшим, ведущим инженером, начальником лаборатории, отдела по разра­ботке и исследованию вакуумных конденсаторов и комму­тирующих устройств. С 1981г. — заместитель директора по научной работе, главный инженер, с 1992 г. — дирек­тор, с 2005 г. — заместитель генерального директора по научной работе и качеству.

Создал научную школу вакуумного конденсаторостроения. Под его руко­водством разработаны и внедрены на заводы страны вакуумные конденсато­ры в номенклатуре, удовлетворявшей подотрасль мощного радиоаппарато-строения.

Автор 65 печатных работ, в том числе книги «Вакуумные конденсаторы», 35 изобретений.

Награжден орденами и медалями СССР.

 

13.1. Введение

Высоковольтные высокочастотные вакуумные конденсаторы нашли широкое применение в мощной электро- и радиоаппаратуре. Использование вакуума в качестве диэлектрика позволяет создать конденсаторы, которые в опреде­ленной области рабочих частот при небольших весах и габаритах обладают лучшей совокупностью электрических и эксплуатационных характеристик по сравнению с воздушными и керамическими конденсаторами.

Высокая электрическая прочность вакуума по сравнению с воздухом дает возможность близкого расположения друг к другу емкостных электро­дов конденсатора, за счет чего вакуумные конденсаторы имеют значительно большие удельные емкости по сравнению с воздушными при напряжениях от единиц до десятков киловольт. Малые потери и особенности конструкций вакуумных конденсаторов позволяют пропускать через них токи до ста и выше ампер при частотах в десятки мегагерц.

Характеристики вакуумных конденсаторов стабильны и мало зависят от изменения условий окружающей среды. Вакуумный диэлектрик являет­ся самовосстанавливающимся после единичных пробоев при перегрузках по напряжению.

Вакуумные конденсаторы переменной емкости имеют низкую величину момента вращения перестройки емкости, а вес и габариты их на порядок ниже по сравнению с воздушными конденсаторами переменной емкости на аналогичные параметры. Коэффициент перекрытия по емкости вакуум­ных конденсаторов переменной емкости может достигать 100 и выше.

Вакуумные конденсаторы просты в эксплуатации. Первой конструкци­ей отечественного вакуумного конденсатора постоянной емкости следует считать конструкцию, запатентованную в 1927 г. советским инженером, впоследствии академиком С.А. Векшинским [I]. Начало отечественному вакуумному конденсаторостроению положили работы А. И. Романова и его группы. Разработанные ими конденсаторы постоянной емкости выпуска­лись на ленинградской «Светлане», а затем были освоены в серийном про­изводстве на ташкентском заводе «Миконд» (емкости до 300 пФ, токи до 25 А и напряжения до 25 кВ).

Бурно развивающаяся в начале 60-х годов подотрасль мощного радио-аппаратостроения, занятая созданием оборудования для радиовещания, радиосвязи, ускорителей заряженных частиц и установок ядерного синте­за — циклотронов, линейных ускорителей и синхрофазотронов, требова­ла разработки и производства более мощных конденсаторов постоянной емкости на токи до 100 А и напряжения до 45 кВ, а также серий мощных конденсаторов переменной емкости, которые в стране не выпускались.

В 1958 году в Пензе был основан научно-исследовательский институт электронно-механических приборов (НИИЭМП), одной из задач которого и были разработка и организация производства вакуумных конденсато­ров. Коллектив разработчиков Васильев В. Г., Деревянко И. А., Загребель-ный В. В., Коновченко М.А., Кузьминов Н.С., Кулаков М.М., Курин В. А., Ловков В. А., Радаев Н.С., Смирнов Э.Н., Шокоров В.А., Юринов М.М. и др. под руководством автора как начальника отдела института и Главного конструктора Министерства электронной промышленности СССР по это­му направлению справился с поставленной задачей. В период 1960—1992 гг. были разработаны основы конструирования и технологии изготовления конденсаторов, проведены экспериментальные работы по исследованию вакуумного пробоя в них, создана серии конденсаторов постоянной и пе­ременной емкости на токи до 400 А и напряжения до 100 кВ. Конденсаторы были освоены в серийном производстве на львовском заводе электронных приборов и ташкентском заводе «Миконд».

К началу разработок конденсаторов в НИИЭМП- на мировом рынке лидером по вакуумному конденсаторостроению была американская фирма «Jennings Radio» (она остается таковой и сейчас), разработавшая к началу 60-х годов прошлого столетия гамму вакуумных конденсаторов постоянной и переменной емкости до 4000 пФ, на напряжения 75 кВ и токи до 400 А.

Отечественным разработчикам радиоаппаратуры нужны были конденса­торы с такими же параметрами. Без разработки конденсаторов и освоения их в производстве было невозможно дальнейшее развитие отечественного мощного радиоаппаратостроения.

Электрическая прочность вакуумного промежутка определяет выбор расстояния между электродами, от которого зависят габаритные размеры пакета емкостных электродов и всего конденсатора. Сама же электрическая прочность зависит от многих факторов — материала, формы емкостных электродов, технологий их изготовления, технологических приемов обра­ботки элементов внутренней арматуры конденсатора и др. Выбор опти­мального размера промежутка между емкостными электродами — одна из основных задач при разработке конденсатора. Конденсатор должен иметь минимальные размеры при заданных значениях емкости и напряжения и обеспечивать работоспособность в течение многих лет.

 

13.2. Расчет и конструирование вакуумных конденсаторов

13.2.1. Общие положения

 

По конструкции вакуумные конденсаторы разделяют на конденсаторы по­стоянной и переменной емкости (рис. 13.1).

Общими элементами конструкций вакуумных конденсаторов как по­стоянных, так и переменных являются емкостные электроды 3, основания 2, на которых они монтируются, выводы 1, предназначенные для крепле­ния пакетов электродов внутри конденсатора и для подсоединения кон­денсатора в схему, выкуумноплотная изоляционная оболочка 4, жестко соединяющая между собой выводы конденсатора, ряд переходных деталей, например, стаканы 6. Для переменного конденсатора характерно наличие узла перестройки емкости 5, позволяющего производить без нарушения вакуума изменение емкости за счет изменения площади поверхности ем­костных электродов или расстояния между ними.

 

Они используются в контурах усилителей мощности, в фильтрах, в каче­стве разделительных и проходных конденсаторов. Разработаны вакуумные высоковольтные (до 100 кВ) конденсаторы, используемые как высоковольт­ные плечи делителей напряжений, вакуумные конденсаторы, выполняю­щие специальные функции — конденсаторы с быстрой перестройкой емко­сти, конденсаторы с большим количеством циклов перестройки емкости, конденсаторы с низким значением момента вращения регулировочного винта, конденсаторы для работы в сверхвысокочастотных цепях, конден­саторы переменной емкости с электрическим приводом (электродвигате­лем), расположенным внутри его, конденсаторы с токовым шунтированием сильфонов (малоиндуктивные) и др.

Вопросы расчета и конструирования электрических конденсаторов рассмо­трены в монографии «Электрические конденсаторы» Владимира Тихоновича Ренне, главного конденсаторщика страны, ныне покойного [2]. Конденсаторы с различными диэлектриками имеют свое, специфическое построение расче­та и конструирования. Основными данными для расчета и конструирования вакуумного конденсатора являются: емкость или пределы изменения емкости для переменных конденсаторов, рабочее и испытательное напряжение, вели­чина тока на заданной частоте или в диапазоне частот, количество циклов перестройки емкости для переменных конденсаторов, условия работы.

Конструктивные размеры вакуумного конденсатора обусловливаются:

•     расстоянием между емкостными электродами, количеством элек­тродов или их площадью, которые должны обеспечивать расчетные напряжения и емкость;

•     длиной внешней части изоляционной оболочки, которая должна выдерживать заданное напряжение при заданных климатических условиях;

формой изоляционной оболочки и ее размерами, которые не долж­ны допускать электрического пробоя между выводами при испы­тательном напряжении и теплового пробоя- при длительной работе конденсатора на высокой частоте;

•     конструкцией и размерами выводов, которые должны обеспечивать пропускание заданного тока без опасного для конденсатора пере­грева места спая с изоляционной оболочкой;

конструкцией и размерами узла перестройки емкости (для перемен­ных конденсаторов), определяющих пропускание заданного высо­кочастотного тока и количество циклов перестройки емкости;

•     специальными требованиями.

Расчет и конструирование вакуумного конденсатора сводятся к нахож­дению оптимальных размеров и выбору элементов конструкции, обеспечи­вающих получение заданных характеристик конденсатора.

13.2.2. Выбор междуэлектродных зазоров и толщины емкостных электродов

Электрическая  прочность  междуэлектродного  вакуумного   промежутка определяется многими факторами. Одним из основных факторов, влияю-

щих на электрическую прочность вакуумного конденсатора, является ве­личина расстояния (зазора) между емкостными электродами. Конструкция емкостных электродов бывает цилиндрической, спиральной и плоской. Наибольшее применение нашли цилиндрические емкостные электроды.

На рис. 13.2 и 13.3 представлены зависимости пробивного напряжения от радиального расстояния между двумя медными тонкостенными (0,5 мм) коаксиальными цилиндрическими медными электродами и зависимости пробивного напряжения от расстояния между плоскими параллельными электродами. Выбираемый междуэлектродный зазор должен обеспечивать нормальную работу конденсатора в течение длительного срока при номи­нальном напряжении, которое в 2—3 раза ниже пробивного.

С увеличением площади электродов и количества их электрическая прочность междуэлектродного вакуумного промежутка уменьшается для конденсаторов с одинаковыми междуэлектродными зазорами, но с боль­шими емкостями, что необходимо учитывать при выборе междуэлектрод­ного зазора. Кроме того, при конструировании конденсаторов большой ем­кости (с большим количеством емкостных электродов) необходимо также дополнительно учитывать то, что за счет конструктивных и технологиче­ских допусков на изготовление деталей, узлов и технологических опра­вок фактически получающийся в конденсаторе зазор между какими-либо смежными емкостными электродами будет всегда меньше величины зазо­ра, выбираемой конструктивно.

В связи со сложными зависимостями пробивного напряжения внутри конденсатора от емкости, толщины емкостных электродов t и др. выбор междуэлектродного зазора d по заданному номинальному напряжению для конденсаторов емкостью 500—1000 пФ ориентировочно производят в случае цилиндрических медных электродов, исходя из следующих соотношений:

 

 

 

Необходимо отметить, что в переменных конденсаторах ввиду люфта в узле перестройки и большой консоли подвижного пакета относительно вывода необходимо выбирать больший, чем в постоянных конденсато­рах, между электродный зазор при одинаковых значениях емкости и на­пряжения.

Соотношения между испытательным и номинальным напряжениями вакуумных конденсаторов определяются многими факторами. Это отно­шение выбирают в пределах 1,2—1,6. В отдельных случаях оно может быть больше. Расстояние 5 между торцами емкостных цилиндрических электро­дов одного пакета и основанием другого зависит от радиального междуэ­лектродного зазора d, наличия или отсутствия отбортовки электродов или выступов на основании, запаса на технологический допуск при заварке конденсатора и выбирается, исходя из соотношения S — (3x4)d.

Толщина электродов выбирается в зависимости от конструкции про­ектируемого конденсатора, величин его напряжения, емкости, тока и др. Чем больше толщина электродов при одном и том же между электродном зазоре, тем меньше напряженность поля в зоне торцов электродов и со­ответственно выше электрическая прочность зазора. Влияние толщины, вернее, радиуса закругления торцов электродов хорошо иллюстрируется на рис. 13.3 (зависимости 1 и 2 получены для плоских электродов с ра­диусами закругления торцов, равным 5 и 0,25 мм, соответственно). Од­нако увеличение толщины электродов ведет к увеличению веса конден­сатора при одной и той же емкости и сложности изготовления. Имеющие место при изготовлении конденсаторов погрешности могут ликвидиро­вать выигрыш в увеличении электрической прочности за счет утолще­ния электродов. Обычно толщина емкостных электродов в конденсаторе с большим количеством их не превышает 1,0 мм при напряжениях выше 25 кВ.

Минимальная толщина электродов ограничивается {трудностью по­лучения электродов, сборки пакетов из тонкостенных электродов и воз­можностью оплавления тонких электродов при тренировке конденсатора в процессе его изготовления или при небольших перегрузках по напряже­нию в сфере эксплуатации. Обычно минимальной толщиной электродов считают 0,3—0,35 мм и не используют такие электроды в конденсаторах с напряжением свыше 5 кВ.

На ранней стадии разработки и производства конденсаторов в каче­стве материала емкостных электродов использовались никель и алюминий. В настоящее время емкостные электроды выполняются из бескислородной меди, нашедшей широкое применение в электронной промышленности.

При конструировании конденсаторов обращают внимание на необходи­мость придания торцам емкостных электродов закругленной формы, даю­щей минимальную напряженность электрического поля.

При конструировании конденсаторов с цилиндрическими электродами необходимо предусматривать отбортовки цилиндров или в основаниях па­кетов электродов базовые отверстия или выступы, относительно которых можно было бы соосно выставлять емкостные электроды при пайке и цен­трировать пакеты электродов при заварке конденсатора.

 

13.2.3. Расчет емкости и размеров пакетов емкостных электродов

 

Емкость двух плоских параллельных электродов (рис. 13.4), находящихся в вакууме, может быть определена по формуле:

С = 0,0885,                                         (13.1)

 

где С — емкость, пФ; S — активная площадь электродов, см2; d — расстоя­ние между электродами, см.

Емкость пакета из п плоских электродов, соединенных электрически через один (рис. 13.5):

С = 0,0885.                                     (13.2)

 

Емкость между двумя цилиндрическими коаксиальными электродами (рис. 13.6) в вакууме определяется как

С = 0,241                                        (13.3)

 

Где l — длина перекрытия электродов, см; D2 и D1соответственно вну­тренний диаметр наружного электрода и наружный диаметр внутреннего электрода, см, емкость в пФ.

В вакуумных конденсаторах с цилиндрическими электродами обычно используется не одна пара электродов, а несколько. Их число может дости­гать несколько десятков. Общая емкость системы электродов определяется суммой емкостей емкостных пар. При расчете многоэлектродных пакетов проводится расчет емкости ряда цилиндрических электродов на единицу длины (междуэлектродный зазор и толщина электродов выбираются пред-

 

 

 

варительно), а затем по заданной емкости и выбранной длине перекрытия электродов производится подбор количества цилиндрических электродов в пакете и диаметров внутреннего и наружного электродов.

При расчете емкости пакета цилиндрических коаксиальных электродов при большом их числе п (рис. 13.7) целесообразно воспользоваться следую­щей формулой [3]:

 

 (13.4)

где r0 — наружный радиус внутреннего цилиндра.

Решая (13.4) относительно (n — 1), определяем количество электродов в пакете по заданной емкости и выбранным r0, l, d и t:

где размеры в см, а емкость в пФ.

Определив количество цилиндрических емкостных электродов в двух пакетах, легко найти внешний диаметр наружного цилиндра пакета

DH = 2[rQ + (d + t)(n - 1)].                               (13.6)

Во всех приведенных формулах не учитывалась емкость рассеяния у краев электродов. Это допустимо для тех случаев, когда отношение дли­ны электродов к между электродному зазору достаточно велико. Для кон­денсаторов малой емкости необходимо учитывать возрастание емкости, обусловленное рассеянием у краев емкостных электродов. При расчете емкости пакетов цилиндрических электродов можно приближенно учесть возрастание емкости за счет замены длины перекрытия электродов 1 чле­ном (1 + d).

В вакуумных конденсаторах в подавляющем большинстве конструкций изоляционная оболочка имеет трубчатую форму, поэтому вторая слагаемая емкости конденсатора — емкость изоляционной оболочки, соединяющей выводы, определяется формулой

        (13.7)

где D2 и D1наружный и внутренний диаметры изоляционной оболочки, см; b — длина изоляционной оболочки, см; ε — диэлектрическая прони­цаемость материала изоляционной оболочки.

Для различных конденсаторов емкость изоляционной оболочки коле­блется от десятых долей до нескольких единиц пикофарад. Приведенные выше формулы для расчета емкости, количества цилиндрических электро­дов в пакетах и их диаметров используются при расчете конденсаторов как постоянной, так и переменной емкости. В случае, когда для получения за­данной минимальной емкости конденсаторов с пакетами цилиндрических электродов необходимо удаление пакетов на определенное расстояние друг от друга (рис. 13.8), значение минимальных емкостей может быть опреде­лено по формуле плоского конденсатора.

Для конденсаторов с цилиндрическими электродами при расстоянии между пакетами 5, большем в 1,5 раза зазора между соседними электро­дами одного пакета, можно считать емкость по формуле

         (13.8)

где DH и DBHдиаметр наружного и внутреннего емкостных электродов конденсатора, см; 5 — расстояние между торцами электродов пакетов, см.

Формула (8) является приближенной, так как она не учитывает боковой емкости и емкости полости внутренних электродов обоих пакетов, однако пользование ею оправдано при инженерных расчетах. Определение гео­метрических размеров пакета электродов по заданному значению емкости и выбранным значениям междуэлектродного зазора и толщины электро­дов сводится к оптимальному выбору перекрытия электродов, количества электродов в пакетах, конфигурации плоских электродов или диаметров внутреннего и наружного электродов при цилиндрической их форме. При расчете переменных конденсаторов с цилиндрическими электродами следует исходить из того, что сумма величин торцового зазора между па­кетами при минимальной емкости и длины перекрытия электродов долж­на равняться ходу подвижного пакета, определяемому выбором сильфона.

 

 

 

При выдвижении подвижного пакета от положения максимальной емкости зависимость емкости конденсатора от длины перекрытия носит линейный характер примерно до положения, когда торцы электродов пакетов окажут­ся в одной плоскости. При дальнейшем удалении подвижного пакета от неподвижного емкость изменяется по нелинейному закону, определяемому междуэлектродным радиальным зазором и геометрией пакетов.

На рис. 13.9 показана типичная зависимость емкости переменного ци­линдрического конденсатора от числа оборотов п регулировочного винта.

 

13.2.4. Выбор сильфона для переменных конденсаторов

 

В переменных конденсаторах для обеспечения перемещения подвижного пакета без нарушения вакуума в конденсаторе используется металличе­ская тонкостенная (0,1—0,2 мм) гофрированная трубка — сильфон. В зару­бежных конденсаторах используются в качестве материала сильфона мед­ные сплавы, в отечественных — дисперсионно твердеющий сплав ЭИ-702, обеспечивающий сильфону большой ход (до 40 мм) и большую цикли­ческую прочность (не менее 10 тыс. полных циклов). Наружная поверх­ность сильфона меднится. Для конденсаторов, рассчитываемых на токи до 25 А используется сильфон с наружным диаметром 20 мм, на токи до 50 А — диаметром 35 мм, на токи до 75 А — диаметром 50 мм и на токи до 100 А — диаметром 100 мм. Выбор сильфона определяется также общей компоновкой конденсатора.

Для конденсаторов, рассчитываемых на токи свыше 75 А, используется принудительное охлаждение внутренней поверхности сильфона, воздуш­ное или жидкостное. Для увеличения токопропускания в отечественных конденсаторах используется шунтирование сильфона гибкими лентами, соединяющими дно подвижного пакета емкостных электродов и токовыводящий вывод. Это в несколько раз снижает индуктивность перемен­ных конденсаторов. Индуктивность постоянных конденсаторов составляет 2—6 нГ, переменных — до 20 нГ.

 

13.2.5. Выбор конструкции выводов

 

Выводы служат для крепления на них внутренней арматуры и подсоедине­ния конденсаторов в схему. Они жестко соединяются изоляционной оболоч­кой. Конструкция выводов, их размеры, форма и материал составляющих их элементов определяются параметрами проектируемого конденсатора. Величины емкости и напряжения определяют размеры пакетов емкост­ных электродов, которые в свою очередь влияют на выбор конструкции выводов конденсатора. Так, для конденсаторов на большие емкости и на­пряжения, имеющих значительные размеры и вес пакетов, выводы должны иметь достаточный запас по механической прочности, обеспечивающий нормальную работу конденсатора при механических воздействиях. Диа­метры выводов или переходных элементов для спая с изоляционной обо­лочкой должны быть соизмеримы с диаметрами емкостных пакетов. Таким образом, размеры емкостных пакетов в общей компоновке конденсатора в определенной степени уже предопределяют выбор конструкции и раз­меров выводов.

Разогрев места спая вывода или переходного элемента с изоляцион­ной оболочкой до определенной температуры лимитирует величину про­пускаемого через конденсатор высокочастотного тока. Нагрев места спая определяется мощностью, выделяемой в металле на этом и близлежащих элементах вывода в изоляционной оболочке, теплоотводом от них и, следо­вательно, зависит от геометрии вывода, электрических и тепловых констант материала вывода и оболочки. Наиболее подходящим материалом вывода является медь. Использование медного вывода оптимально в сочетании с керамической изоляционной оболочкой, так как спаи меди со стеклом вызывают необходимость изготовления тонкостенного лезвенного вывода, не выдерживающего повышенных механических воздействий и трудного в изготовлении. Следует отметить, что в настоящее время металлостеклянные корпуса в вакуумном конденсаторостроении почти не используются.

Диаметр спая вывода с изоляционной оболочкой определяется величи­ной расчетного тока. Установлено, что для обеспечения нормальной работы конденсатора при естественном охлаждении плотность высокочастотного тока, проходящего через вывод в месте керамики с металлом, должна быть не более j = 40 -е- 50 а/мм2. Эффективная глубина проникновения электро­магнитной энергии в металл определяется соотношением

мм,                                     

  мм,             (13.9)

где ρ — удельное сопротивление, ом·мм2/м; f — частота, Гц; µмагнитная проницаемость металла.

Диаметр вывода в месте спая изоляционной оболочки с металлом опре­деляется как

                     (13.10)

где I — заданная величина тока, A; j — выбранное значение плотности тока, А/мм2.

В переменных конденсаторах выбор конструкции вывода подвижного пакета определяется не только величиной плотности тока, протекающего через него, но также конструкцией и размерами узла перестройки емкости. Внутренний диаметр вывода не может быть меньше наружного диаметра металлического сильфона.

 

13.2.6. Расчет изоляционной оболочки конденсаторов

 

Размеры изоляционной оболочки должны обеспечить работу конденсатора при заданных условиях его работы без электрического пробоя (перекрытия) между выводами по ее поверхности и теплового пробоя самой оболочки.

Величина напряжения электрического пробоя по поверхности оболоч­ки при нормальном атмосферном давлении определяется в основном ее длиной, а в случае пониженного атмосферного давления — произведением длины оболочки на плотность воздуха. При ориентировочном выборе ми­нимально допустимой длины изоляционной оболочки конденсатора исхо­дят из величины испытательного напряжения при давлении 400 мм рт. ст. в расчете 4—5 кВ на сантиметр. Диаметр изоляционной оболочки конден­сатора определяется диаметром вывода или переходного кольца и радиаль­ным расстоянием между внешним емкостным электродом и поверхностью оболочки. Выбор этого расстояния, а также длины оболочки должен про­изводиться, исходя из недопустимости теплового пробоя оболочки при ра­боте конденсатора в заданных режимах.

Вычисление напряжения теплового пробоя изоляционной оболочки связано с решением дифференциального уравнения

div(KgradT) =-Q,                                   (13.11)

где К — коэффициент теплопроводности; Т — температура; Q — удельное тепловыделение в оболочке.

Для случая высокочастотного теплового пробоя

 Вт/см3                        (13.12)

где е — диэлектрическая проницаемость изолятора; tgδтангенс угла диэ­лектрических потерь; f— частота переменного поля, Гц; Eнапряжен­ность электрического поля, кВ/см.

В связи с большими трудностями аналитического решения уравнения (13.11) в [4] был предложен графоаналитический метод расчета напряжения теплового пробоя высокочастотных изоляторов. Этот метод может быть использован и для расчета изоляционных оболочек вакуумных конденса­торов. Зная напряженность поля в изоляционной оболочке Епр, при ко­торой на рабочей частоте происходит пробой, задавшись коэффициентом «безопасной работы» к, можно определить длину изоляционной оболочки по заданному номинальному напряжению:

                                     (13.13)

 

Так как для изоляционных оболочек вакуумных конденсаторов отно­шение толщины к диаметру обычно мало, для определения напряженности теплового пробоя можно воспользоваться формулой

 ,                (13.14)

где λ — коэффициент внешней теплоотдачи; t — толщина стенки оболочки, см; ТАтемпература окружающей среды, 0С; Т* — температура точки ка­сания прямой, проведенной из точки ТА, лежащей на оси абсцисс, к кривой,

изображающей зависимость  от температуры (рис. 13.10).

Расчет по формулам (13.13) и (13.14) производят при равномерном (или близком к нему) распределении электрического поля вдоль изоляционной оболочки. В практике конструирования конденсаторов часто компоновка пакетов емкостных электродов и выводов бывает такой, что распределение электрического поля по длине изоляционной оболочки неравномерно. Рас­пределение поля вдоль оболочки зависит от диаметра внешнего электрода, его конфигурации и длины, соотношения диаметров внешнего электро­да и выводов и т.д. На рис. 13.11 показаны примеры распределения поля в оболочке, полученные с помощью электролитической ванны для конден­саторов одинаковой длины и диаметра, но с различными длинами и диа­метрами наружных емкостных электродов (а—г).

Величина максимальной напряженности в оболочке определяется рас­стоянием ее от наружного электрода. На рис. 13.12 показана зависимость величины напряженности (в относительных единицах) от расстояния до внешнего электрода в плоскости, перпендикулярной оси и проходящей че­рез торцы внешнего электрода.

 

Таким образом, для достижения максимальной величины напряжения теплового пробоя при конструировании вакуумного конденсатора необхо­димо добиваться такой компоновки его арматуры, которая при приемлемых габаритных размерах обеспечивала бы равномерное (или близкое к нему) распределение электрического поля изоляционной оболочки. В этом слу­чае правомерно использование графоаналитического метода расчета на­пряженности теплового пробоя.

 

 

При выбранной компоновке металлической арматуры конденсатора и предполагаемом неравномерном распределении поля в зоне изоляционной оболочки необходимо произвести моделирование поля в электролитической ванне и подобрать диаметр изоляционной оболочки и ее форму, исходя из того, что напряженность в любой точке оболочки не должна быть больше величины напряженности, рассчитываемой по формуле (13.14), так как она учитывает электрический и температурный режимы работы конденсатора. Реальная напряженность теплового пробоя в зоне максимальной напря­женности при этом будет выше напряженности, определяемой по формуле (13.14), так как в этом случае формулой не учитывается отвод тепла в обе стороны по длине оболочки от зоны максимальной напряженности. Кри­терием правильности выбора геометрии и формы изоляционной оболочки конденсатора является проверка работы его в заданных режимах.

В процессе эксплуатации конденсаторов причинами, которые вызы­вают тепловой пробой оболочки, могут быть: отклонение электрических режимов работы конденсатора от режимов, указанных в технических усло­виях; создание на конденсаторе или вокруг него температурных условий, не предусмотренных правилами эксплуатации конденсатора; близкое рас­положение возле оболочки конденсатора металлических частей аппарату­ры, концентрирующих на ней электрическое поле.

Вопросы применения вакуумно-плотной керамики и конструирования металлокерамических узлов рассматриваются в [5].

 

13.2.7. Расчет потерь в вакуумных конденсаторах

 

Активная мощность Ра, выделяемая в вакуумном конденсаторе в виде теп­ла, определяется потерями в металлической арматуре Рм, в изоляционной оболочке Риз, а также потерями Риз за счет проводимости междуэлектрод­ного вакуумного промежутка.

Разберем отдельно каждый из видов потерь.

Потери в металлической арматуре. Они складываются из потерь в ем­костных электродах, соединительных деталях и выводах. Потери в деталях цилиндрической формы определяются как

                                (13.15)

где I — протекающий через конденсатор ток, А; ρ — удельное электри­ческое сопротивление, Ом · мм2/м; l — длина цилиндрической детали, м; Dдиаметр детали, мм; β — эффективная глубина проникновения элек­тромагнитной энергии в металл в миллиметрах, значение которой можно определить по (13.9).

Потери в деталях дисковой формы определяются по формуле

 Вт,                                    (13.16)

 

где ρ — удельное электрическое сопротивление, ом·мм; D2 — наружный диаметр диска, мм; D1 — внутренний диаметр диска, мм. Потери в пакете цилиндрических коаксиальных электродах, образующих емкость конден­сатора (рис. 13.12), с учетом изменения величины высокочастотного тока по длине электродов, а также с учетом потерь в закраинах и в донной части пакетов можно определить по формуле:

где l — длина перекрытия электродов, м; ∆l  - длина закраин, м; С — сум­марная емкость конденсатора, пФ; D1средний диаметр первой пары электродов, мм; Б — удвоенное значение суммы толщины и радиального зазора, м. Вывод формулы приведен в [3].

Соотношение длины цилиндрических электродов и их количества для получения заданной емкости определяется общей компоновкой кон­денсатора.

Потери в изоляционной оболочке. Для расчета мощности потерь в обо­лочке при ее аксиально-симметричной конструкции необходимо знать распределение электрического поля по длине оболочки. Длина оболочки должна быть разделена на кольцевые участки, высота и количество ко­торых определяют точность подсчета. На каждом участке определяется выделяемая мощность. Потери по всему объему изоляционной оболочки определяются как сумма потерь в каждом из участков

   Вт,                       (13.18)

 

где ε — диэлектрическая проницаемость материала оболочки; f — часто­та, МГц; tg б - тангенс угла потерь при окружающей температуре; Dn — средний диаметр кольцевого участка, см; tn - толщина стенки кольцевого участка, см; ∆hn — высота кольцевого  участка, см.; Еп — средняя величина напряженности на n-ом участке, кВ/см.

Потери за счет проводимости междуэлектродного промежутка:

 Токи проводимости (утечки) в вакуумных конденсаторах при номи­нальных напряжениях сравнительно малы, чтобы учитывать мощности потерь за их счет при расчете обычных конденсаторов.

Так, если ток утечки конденсатора при напряжении 20 кВ равен 10 мкА, то мощность потерь на постоянном токе равняется всего 0,2 Вт. При пере­менном токе она будет еще меньше. Для специальных конденсаторов, когда все-таки требуется ее учет, расчет ее проводится по методике, разработан­ной в [3].

При проведении расчетов вакуумных конденсаторов с принудительным (воздушным и жидкостным) охлаждением следует пользоваться опытом расчетов мощных электровакуумных приборов, широко представленным в литературе [6].

 

13.2.8. Тепловой расчет конденсатора

 

Тепловой расчет конденсатора проводится с целью оценки правильности выбранных размеров его с точки зрения обеспечения допустимых значе­ний нагрева изоляционной оболочки и выводов при заданных значениях окружающей температуры и соответствующих режимах работы конденса­тора. При установившемся тепловом режиме выделяемая в конденсаторе в виде тепла мощность Ра должна равняться количеству тепла, отдаваемому с его поверхности в единицу времени в окружающую среду за счет излу­чения QИ, конвекции QK и теплопроводности Q П1,2 от выводов к элементам схемы, крепящим конденсатор:

Pa=Qu+QK+QП1,2                                    (13-19)

 

При расчете конденсаторов со стеклянной оболочкой обычно задают­ся максимальной температурой выводов, которая определяется в основном допустимым нагревом спая изоляционной оболочки с металлом и обычно не должна превышать 120 °С, исключая случаи специального назначения, когда требуется работа конденсатора при повышенной окружающей тем­пературе. При работе конденсатора основная доля тепла выделяется в ме­таллической внутренней арматуре, соединенной с выводами, и поэтому в большинстве случаев последние нагреваются значительно больше, чем изоляционная оболочка в средней части.

В связи с неравномерным распределением температуры по оболочке в высоковольтных конденсаторах определение тепла за счет конвекции и излучения необходимо производить по участкам, имеющим по длине не­большой перепад температуры в случае наличия данных по распределению температуры вдоль оболочки конденсаторов аналогичного типа. При отсут­ствии таких данных для упрощения расчета можно принять температуру поверхности изоляционной оболочки и выводов одинаковой, что справед­ливо для малогабаритных низковольтных конденсаторов. При расчете кон­денсаторов одной базовой конструкции тепловой расчет необходимо про­водить для типономинала, имеющего наименьшие габаритные размеры.

В работе [7] указывается, что при значениях площади боковой по­верхности конденсаторов порядка 100—200 см2 и выше величина коэффи­циента теплоотдачи за счет конвекции и излучения \ близка значению 1х10 -3 Вт/(см2 ·град).

При тепловом расчете вакуумных конденсаторов с боковыми поверх­ностями, близкими по величине к указанным, следует пользоваться этим приближенным значением при реальных нагревах поверхности конденсаторов. Таким образом, две составляющих теплоотдачи конденсатора (за счет конвекции и излучения) можно определить как

0Т=0И+0кТSσкσ),                        (13.20)

 

где Sσ - боковая поверхность конденсатора, см2; T0 — окружающая темпе­ратура, °С; Тк — температура оболочки конденсатора, °С.

Составляющую Qn для каждого из выводов можно приближенно опре­делить с помощью следующего соотношения:

   (13.21)

где λП - коэффициент теплопроводности материала соединительной дета­ли, Вт/(см-град); Sn — площадь поперечного сечения соединительной дета­ли, см2; lс — длина соединительной детали, см; Ts — температура на кон­це соединительной детали, 0 C; λт — коэффициент теплоотдачи, принятый ориентировочно равным 1х10 -3 Вт/(см2 град); боковая поверхность соединительной детали, см2.

При проведении расчета невозможно предугадать конструкции деталей, соединяющих выводы конденсатора с элементами схемы. Соединительные детали могут быть цилиндрическими или плоскими. Один из выводов конденсатора может крепиться непосредственно к корпусу устройства или к массивным металлическим элементам схемы, которые в свою очередь могут иметь при работе устройства температуру окружающего конденсатор воздуха или же ниже ее. В случае непосредственного крепления вывода к корпусу или массивным элементам схемы (наилучший вариант) вывод конденсатора принимает их температуру, вследствие чего он будет незна­чительно перегреваться, однако необходимо учитывать реальную возмож­ность использования конденсатора с соединительными деталями.

По результатам расчета отводимого от конденсатора тепла делается вывод о корректности выбора элементов конденсатора и их компоновке. В случае если теплоотдача меньше выделяемой в конденсаторе мощности, необходимо увеличить площадь поверхности конденсатора, отдающую тепло.

Тепловой расчет является оценочным. В процессе разработки конден­сатора обязательно проведение испытаний его макетов на пропускание номинального высокочастотного тока при номинальном напряжении для отработки оптимальных размеров конденсатора. В случае необходимости разработки конденсаторов на большие значений токов при высокой часто­те, когда увеличение диаметров и длин выводов и изоляционной оболочки резко снижает механическую прочность конденсатора, делает его дорогим и трудным, а иногда невозможным в изготовлении, применяется принуди­тельное охлаждение выводов конденсатора.

Искусственное воздушное охлаждение увеличивает токопропускание конденсатора в 1,5—2 раза, а жидкостное — в 5—10 раз. Для переменных конденсаторов, у которых в сильфонном узле выделяется около 2/3 всей выделяемой конденсатором мощности, принимаются в первую очередь меры по принудительному охлаждению сильфонного узла. Поэтому целесоо­бразным является смешанное охлаждение, скажем, естественное охлажде­ние вывода неподвижного пакета и принудительное воздушное охлажде­ние сильфонного узла или принудительное воздушное охлаждение вывода неподвижного пакета и жидкостное — сильфонного узла.

13.3. Изоляционные свойства вакуума и меры по

увеличению электрической прочности вакуумных конденсаторов

13.3.1. Предпробойные явления и вакуумный пробой

Использование вакуума в качестве среды, разделяющей емкостные элек­троды конденсаторов, определяется рядом преимуществ вакуума как диэлектрика по сравнению с другими диэлектрическими материалами. К преимуществам вакуума как диэлектрика относятся: а) стабильность ди­электрической постоянной при изменении окружающих условий; б) чрез­вычайно малые потери в широком диапазоне частот; в) высокая электри­ческая прочность.

Сравнение электрической прочности вакуума и других диэлектриков показано на рис. 13.13 [1]. Наибольшую пробивную напряженность ва­куум имеет при небольших междуэлектродных зазорах и соответственно небольших напряжениях. Именно в этой зоне напряжений и работают вакуумные конденсаторы. Исследованию изоляционных свойств вакуу­ма посвящено большое количество работ. Наиболее полные системати­зация и обобщение материалов по вакуумной изоляции даны в книгах И.Н. Сливкова [9, 10], в монографии Р. Латама «Вакуумная изоляция уста­новок высокого напряжения» [11]. Изоляционные свойства вакуума при­менительно к практике использования его в электрических вакуумных конденсаторах приведены в [3].

При понижении давления газа в приборе до значения, когда средняя длина свободного пробега молекул, электронов и ионов становится боль­ше междуэлектродного расстояния, ионизация в газе не вызывает газового разряда между электродами, к которым приложена разность потенциалов. Хотя в этом случае нет условий для развития лавинных процессов, необхо­димых для образования газового разряда, вакуум не является идеальным изолятором и при определенных условиях имеет конечное значение про­бивного напряжения. На рис. 13.14 показана зависимость пробивного на­пряжения между плоскими электродами при изменении давления воздуха и постоянном расстоянии между электродами, равном 6 мм. При давлении от атмосферного до (1—5)х10 -3  мм рт. ст. зависимость соответствует за­кону Пашена. Дальнейшее снижение давления не изменяет величину про­бивного напряжения. Это зона вакуумного пробоя. При напряженности электрического поля порядка 5х10 -3 В/мм между электродами начинает протекать ток. Различают три вида токов: предпробойный (темновой), ток микроразрядов и ток вакуумного пробоя.

Исследования, проведенные рядом авторов по определению электронной и ионной составляю­щей предпробойного тока, показали, что он опре­деляется в основном электронами.

Под действием электрического поля электро­ны выходят из металла электродов, проникая че­рез потенциальный барьер. Величина тока зависит от прикладываемого напряжения, напряженности поля на поверхности катода, площади электродов, характеристик металла и состояния поверхности электродов. Величина тока подчиняется закону Фаулера — Нордхейма:

 

I = AE2 e-B/E                                     (13.22)

где Е — напряженность поля у катода; А и В — константы, определяемые эмпирически для каж­дого отдельного случая.

Предпробойный ток относительно устойчив. В значительной степени он определяется состоя­нием поверхности электродов. Зависимость тока от напряжения  для  вакуумных  конденсаторов подчиняется уравнению (13.22). Величина тока для них составляет от еди­ниц при номинальном напряжении до сотен микроампер при испытатель­ном напряжении.

При определенных значениях тока на фоне устойчивого тока появляют­ся кратковременные самозатухающие импульсы тока. Такие вспышки тока называют микроразрядами. Амплитуда токов при микроразрядах обычно не превышает единиц миллиампер, а длительность цх прохождения со­ставляет 10 -5—10 -3 сек [12].

На основании разбора физических представлений о микроразряде, установленных рядом исследователей, в работе [13] представляется следую­щая картина развития микроразряда. В какой-то момент времени случай­ная частица выбивает из поверхностных загрязнений катода отрицатель­ные ионы. Ионы ускоряются электрическим полем и, попадая на анод, выбивают из поверхностных загрязнений его различные частицы, в том числе по­ложительные ионы. Последние, ускоряясь полем, выбивают из загрязнений на катоде отрицательные ионы и т. д. Процесс раз­вивается лавинообразно, распространяясь в стороны от точки зарождения. Самогаше­ние микроразряда происходит в результате уменьшения плотности поверхностного загрязнения. Для развития микроразряда необходимы соответствующие условия на

В вакуумных конденсаторах микроразряды имеют место в процессе тренировки и после длительного (более месяца) хранения без подачи на­пряжения на них, это может быть объяснено тем, что во время тренировки пленки загрязнений удаляются с рабочих поверхностей электродов, но по­сле длительного хранения конденсаторов в связи с миграцией загрязнений по поверхности электродов последние заново появляются в рабочей зоне. Достаточно прохождения нескольких десятков микроразрядов для вос­становления электрической прочности конденсатора. Разумеется, условия производства конденсаторов влияют на порог появления микроразрядов, их количество и частоту прохождения при подъеме напряжения до испы­тательного значения.

Третий вид тока — ток вакуумного пробоя. Под вакуумным пробо­ем понимают разряд с резко падающей вольт-амперной характеристикой с последующим переходом при достаточной мощности источника питания к низковольтному дуговому разряду в парах материала электродов и вы­делившихся газах. По [9] пробой вакуумного промежутка приводит к ис­крению — разряду с быстроменяющимся током, доходящим до нескольких килоампер при резко снижающемся напряжении. В междуэлектродном за­зоре и на электродах выделяется энергия, запасенная ранее в емкости элек­тродов и непосредственно подключенных к ним элементов схемы. «Под­питка» разряда от источника питания, отдаленного от электродов, обычно незначительна ввиду кратковременности процесса. После разрядки через вакуумный промежуток емкости электродов напряжение на зазоре падает до нескольких десятков вольт и разряд переходит в вакуумную дугу, если питающая цепь может обеспечить протекание через вакуумный зазор тока в несколько килоампер. Если же мощность источников питания мала, то разряд прекращается или становится нестабильным, прерывистым. Визу­ально возникновение пробоя отмечается как появление между электрода­ми светящегося канала или облака. Возникновение дуги между электро­дами вакуумных конденсаторов недопустимо, так как она приводит к их разрушению и выходу конденсатора из строя.

 

 

 

 

13.3.2. Гипотезы вакуумного пробоя

 

Сложность процессов, приводящих к вакуумному пробою, способствовала разработке ряда гипотез. Все они могут быть подразделены на несколько классов.

Обменный механизм. Одной из первых гипотез вакуумного пробоя явля­ется гипотеза Трампа и Ван-де-Граафа [8], согласно которой пробой может развиваться от одного или нескольких электронов, случайно оказавшихся в междуэлектродном промежутке. Первичный электрон, разгоняясь элек­трическим полем до больших скоростей у анода, выбивает из него А по­ложительных ионов и С рентгеновских фотонов. Каждый положительный ион и рентгеновский фотон, попадая на катод, вызывает эмиссию соответственно В и D вторичных электронов. Процесс повторяется, и условием пробоя является следующее соотношение:

АВ + CD ≥ 1.                                        (13.23)

В связи с затруднениями экспериментально доказать возможность вы­полнения этого соотношения рядом исследователей были сделаны попыт­ки дополнить эту гипотезу введением в обменный механизм отрицатель­ных ионов. При этом полагалось, что положительные ионы выбивают из катода не только электроны, но и отрицательные ионы, так как коэффици­ент вторичной эмиссии положительных ионов из анода под воздействием бомбардировки отрицательными ионами больше, чем при бомбардировке электронами. Уточненная гипотеза более вероятна.

Н.И. Ионовым [14] высказана гипотеза, согласно которой иницииро­вание начальной проводимости междуэлектродного промежутка вызвано термоионной эмиссией в электрическом поле положительных ионов с ано­да и отрицательных с катода. На поверхности электродов всегда имеется адсорбированная пленка посторонних веществ, а сами электроды содержат в виде примесей значительное количество других элементов и сорбиро­ванных газов. При достаточной напряженности поля Е может возникнуть эмиссия электронов и отрицательных ионов примесных элементов с като­да. Эта эмиссия начнется раньше всего в тех точках поверхности катода, где локальная работа выхода будет иметь минимальное значение. Эмиссия положительных ионов с анода будет иметь место в тех точках поверхности, где работа выхода будет максимальной. По Н. И. Ионову, заметная ионная эмиссия возникает при Е = 105х 106 В/см, а так как он полагает, что невоз­можно выбивание положительных ионов электронами, то начало прово­димости промежутка обязано только эмиссии отрицательных ионов с ка­тода и положительных ионов с анода. Ускоренные разностью потенциалов ионы, ударяясь о противоположные электроды, вызовут локальные разогревы электродов и все виды вто1ричной эмиссии с них. Места локальных нагревов явятся источниками повышенной термоэмиссии в электрическом поле положительных ионов на аноде и отрицательных ионов и электронов на катоде и источниками нейтральных частиц за счет катодного и анодного распыления. Электроны у катода за счет взаимодействия с нейтральными вторичными частицами могут дополнительно образовать положительные и отрицательные ионы. Ионизация вторичных нейтральных частиц бы­стрыми электронами может иметь место у анода. Кроме этого, на электро­дах или вблизи их может иметь место конверсия ионов, т. е. отражение первичных ионов от электродов с изменением знака заряда.

На основе своей гипотезы Н.И. Ионов качественно объясняет такие аспекты вакуумного пробоя, как зависимости проводимости от состояния поверхности электродов и электрической прочности промежутка от темпе­ратуры и давления.

Гипотезы, объясняющие вакуумный пробой автоэлектронным током. В ряде гипотез основную роль в возникновении вакуумного пробоя от­водят автоэлектронной эмиссии. В одной группе гипотез определяющим считают разогрев анода, в другой — катода. Количественное согласование зависимости тока от напряженности поля с формулой Фаулера — Нордгейма может быть получено при предположении, что на поверхности катода имеются неоднородности, локальная напряженность у которых значитель­но отличается от значения среднего градиента напряжения в пространстве между электродами.

В 1929 г. академик Н. Н. Семенов с сотрудниками предложил следую­щий механизм вакуумного пробоя. Уже при небольшой силе поля из ка­тода вырывается небольшое количество электронов. Ударяясь об анод, эти электроны испаряют часть газа, содержащегося в металле. В газовом об­лачке образуется несколько положительных ионов, которые, в свою оче­редь, ударяясь о катод, вызывают еще большую электронную эмиссию. Эти электроны вызывают свечение газа. Искра пропадает довольно быстро, так как место электрода, на котором начался разряд, быстро обезгажива-ется и нужно некоторое время, пока новые порции газа придут на поверх­ность из внутренних частей. Если же вторичная электронная эмиссия на­столько велика, что анод в некотором месте раскалится и, кроме того, если в данном месте анод содержит какие-либо загрязнения, то разряд может принять до некоторой степени постоянный характер [15].

Позднее эта гипотеза была поддержана в работах Шмидта, Вийкера, Бойля и развита в том направлении, что эмиттируемые с микровыступов катода электроны вызывают локальный нагрев анода и его испарение, и разряд развивается не только в газах, но и в парах металла электродов.

Мейтланд, изучая теоретически и экспериментально вакуумный про­бой, постулировал подобный механизм. Он показал, что каждый большой пучок электронов состоит из большого количества малых пучков. Исследуя следы пробоев на поверхности анода, он нашел, что каждое большое пятно от пробоя состоит из большого количества (порядка 105) мелких крате­ров. Он заключил, что каждый кратер был вызван единственным пучком и пробой происходит тогда, когда энергия, выделяемая в любом кратере, превосходит критическую величину.

И.Н. Сливков [16], разбирая случай электрического пробоя в вакууме, вызываемого испарением на аноде, рассмотрел вопрос возникновения га­зового разряда в парах, выделяющихся из анода. В связи с особенностью газового разряда в парах металла анода возникновение его наиболее ве­роятно в сравнительно небольшом объеме непосредственно вблизи мест испарения на аноде. Однако плотность ионизованных частиц в нем бу­дет высока. Расчет показывает, что ионный ток, отсасываемый с границы газоразрядной плазмы, может привести в месте попадания его на катод к разогреву последнего свыше 5000 °С, т. е. значительно выше температу­ры плавления обычных электродных материалов. «Закорачивание» части междуэлектродного зазора газоразрядной плазмой и объемный заряд пото­ка ионов из нее на катод увеличивают напряженность на катоде, что вместе с повышением его температуры приводит к пробою между электродами.

Другой род гипотез связывает вакуумный пробой с автоэмиссионным током за счет процессов, связанных с нагревом на катоде. Ахерном [17] при проведении экспериментов по изучению вакуумной изоляции между тонкой нитью и коаксиальным с ней цилиндром было установлено, что возникновение вакуумного пробоя зависит от величины сопротивле­ния в цепи питания с напряжением 26 кВ. При сопротивлении, большем 100 МОм, пробой не возникал. Пробой не был связан с явлениями на аноде и определялся процессами на катоде — разрушением поверхности катода и образованием на нем новых выступов из-за местного разогрева, вызванного ионной бомбардировкой, джоулевым нагревом или же действи­ем больших электростатических сил.

В работе Дайка и Тролана [18], изучавших процессы, приводящие к пробою на острийных эмиттерах, представляется следующий механизм пробоя. Автоэлектронные токи, достигающие больших плотностей, разо­гревают тонкое острие катода. Возникающая термоэмиссия приводит к воз­растанию тока. Рост тока приводит к дальнейшему нагреву острия до его испарения и развитию пробоя между электродами в парах металла.

В. А. Горьковым и др. [19] рассмотрен вопрос температурного измене­ния электрического сопротивления острия и влияние этого процесса на возникновение пробоя. В работе [9] проведен расчет нагрева эмиттирующего выступа на поверхности массивного электрода и выведено выраже­ние, определяющее возможность расплавления этого выступа джоулевым теплом.

Г.Н. Фурсей с сотрудниками, анализируя работы Дайка и др., отме­чали в ряде работ, что предполагаемый лавинообразный процесс нагрева эмиттера не может объяснить резкий взрывообразный переход к пробою, наблюдаемый экспериментально. Осциллографируя предпробойные токи, им удалось показать, что при очень осторожном приближении к крити­ческому состоянию можно получить участки, на которых самопроизволь­ный рост тока почти отсутствует, однако дальнейшее пропускание тока во времени приводит к пробою. В работе [20] дается модель возникновения пробоя. В связи с тем, что всякая реальная поверхность содержит микроне­однородности, имеющие форму острий, элементарным актом возбуждения пробоя является взрывное разрушение микронеоднородности, аналогич­ное электрическому взрыву тонких проволочек при пропускании через них токов. Процесс разрушения микронеоднородности сопровождается созда­нием плотной плазмы в окрестности разрушения и образованием положи­тельного пространственного заряда, обеспечивающего наличие сильного поля на данном участке катода, которое вытягивает новые острия из жид­кой фазы катода. Возникшие острия разрушаются при прохождении через них критических токов. Вытягивание и разрушение острия является актом, обеспечивающим эмиссионный процесс и возбуждение нового цикла.

Вакуумный пробой, вызываемый частицей в междуэлектродном проме­жутке. В 1952 г. Кренбергом [21] была выдвинута гипотеза, согласно кото­рой пробой между электродами в вакууме происходит благодаря отделению частиц с поверхности одного из электродов. При приложении напряжения к электродам на них возникают поверхностные заряды, плотность которых пропорциональна полю. Частица, плотно прилипающая к электроду любой полярности, приобретает заряд и может быть оторвана от электрода сила­ми электростатического отталкивания. Оторванные частицы разгоняются

полем и бомбардируют противоположный электрод. Обладая большой ки­нетической энергией, они могут вызвать локальный разогрев бомбардируе­мого электрода и пробой вакуумного промежутка. Критерием пробоя по Кренбергу является соотношение:

UE С,                                            (13.24)

где Е — напряженность поля у электрода до отрыва частицы; U — напря­жение между электродами; С — константа для данной пары электродов.

И. Н. Сливков [22] считает, что определяющим в возникновении пробоя является не локальный разогрев электрода при бомбардировке его части­цей, а испарение самой частицы, возникновение разряда в образовавшемся газовом пузыре и распространение его между электродами. И.Н. Сливков дает критерий вакуумного пробоя, отличный от критерия Кренберга.

Н.Б. Розанова [23], проводя эксперименты по изучению вакуумного пробоя промежутка, в который вносились металлические частицы, показа­ла, что гипотеза Кренберга не состоятельна в области инициирования про­боя частицами, слабо связанными с электродом. Полученные ею значения пробивного напряжения между электродами, когда на них были специ­ально внесены макрочастицы с размерами 5—40 мкм, были почти в 10 раз меньше пробивного напряжения в случае отсутствия частиц на электродах. Она считает, что высокие значения напряжения для пробоя нужны не для придания кинетической энергии частице, за счет которой она инициирует пробой (по Кренбергу), а для создания свободных частиц в промежутке за счет отрыва их от электродов.

В работе [24] при помощи микрокиносъемки показано, что поверхность электродов изменяет микрорельеф как при пробоях, так и в предпробойной фазе. Под действием электрического поля на поверхности электродов возникают металлические острия и имеет место их отрыв, который сопро­вождается пробоем вакуумного промежутка.

Десорбционный механизм электрического пробоя в вакууме. Поверхности электродов и изоляционной оболочки вакуумных приборов при техни­ческом вакууме (10-4—10 -7 мм рт. ст.) покрыты поли молекулярным слоем адсорбированных веществ. Количество адсорбированных веществ может быть таким, что при их десорбции при приложении высокого напряже­ния в отдельных зонах прибора могут возникнуть условия для зажигания газового разряда. Напряжение зажигания разряда соответствует кривой Пашена. Возникший разряд вызывает дальнейшую десорбцию, нагрев, а в отдельных случаях — плавление металла электродов или материала изоляционной оболочки. Вакуумный прибор выходит из строя.

В литературе по вакуумному пробою десорбция газов с электродов объ­ясняется по-разному. В работе [25] причиной газоотделения считается бом­бардировка электродов заряженными частицами. Причинами десорбции газа с электродов могут быть микроразряды и нагрев элементов вакуумного прибора. Л. В. Тарасова [26], анализируя результаты проведенных ею опы­тов, вводит предположение о поверхностном газоотделении при действии электрического поля величиной 104—106 В/см. Состав адсорбированных газов и паров весьма сложен и зависит от способа откачки. Значительная часть адсорбированного слоя состоит из полярных молекул (продукты раз­ложения вакуумных масел, СО, Н2О). Если направление электрического поля противоположно направлению дипольного момента или проекции его на направление поля, то теплота адсорбции понижается, уменьшается вре­мя адсорбции и происходит отделение полярных молекул с поверхностей. Десорбция может усиливаться за счет вторичных эффектов, обусловленных движением диполей в неоднородном электрическом поле вблизи микро­неровностей металла и столкновениями с поверхностью. Л. В. Тарасова считает, что при коротких импульсах и при постоянном напряжении де-сорбционный механизм маловероятен. При коротких импульсах молекулы, отделившиеся от электродов, не успевают распространиться на достаточное расстояние. При постоянном напряжении газоотделение распределено во времени, и в связи с уходом десорбированных частиц в междуэлектродном промежутке не создается достаточно плотной среды для развития пробоя.

Следует отметить, что практика разработок вакуумных конденсато­ров показала случаи возможности десорбционного механизма вакуумного пробоя при высокочастотном напряжении. Отмечена зависимость вели­чины напряжения разряда от частоты. Возникновение разряда в отпа­янных макетах конденсаторов наблюдалось при давлении в них порядка 10 -6 мм рт. ст. Десорбционный пробой в приборах не имеет места при при­ложении постоянного или переменного напряжения с частотой ниже кри­тической. Анализ, проведенный для приборов с определенным расположе­нием электродов, исключает возможность резонансного высокочастотного разряда, описываемого в работе [27]. Отмечена зависимость возникновения десорбционного пробоя от условий изготовления и откачки приборов.

В работе [28] отмечается, что в условиях технического вакуума де­сорбционный механизм пробоя является решающим, относительная роль которого уменьшается по мере удаления остаточных газов и паров масел из экспериментальной установки. Показано, что пробивное напряжение междуэлектродного промежутка зависит от конфигурации и расположения электродов. При подборе оптимальной конструкции электродов необходи­мо стремиться к тому, чтобы десорбированный газ в междуэлектродном промежутке не создавал бы достаточно плотной материальной среды для развития пробоя.

 

13.3.3. Зависимость пробивного напряжения вакуумного промежутка от различных факторов

Многочисленные экспериментальные данные об электрическом пробое ва­куумного промежутка и гипотезы, объясняющие его возникновение, по­казывают зависимость пробивного напряжения от многих факторов. Рас­смотрим основные из них.

Расстояние между электродами, конфигурация и площадь электродов. Од­ним из основных факторов, определяющих напряжение пробоя, является расстояние между электродами. К настоящему времени проведено боль­шое число работ, в которых определялись зависимости пробивного напряжения от междуэлектродного зазора при различных условиях проведения экспериментов. С увеличением расстояния d между электродами растет величина пробивного напряжения. Андерсоном [28] для плоских электро­дов небольшой поверхности в широком диапазоне напряжений выведена следующая эмпирическая зависимость;

,                     (13.25)

где U  в киловольтах; d в сантиметрах.

Для зазора 0,1 см пробивное напряжение составит 67,8 кВ, а для 0,15 см - 96 кВ.

Нами установлено, что пробивное напряжение между двумя медными электродами при различных величинах промежутков и толщины электро­дов соответствует практически постоянное значение величины напряжен­ности на кромках тонкостенных электродов, равное около 80 кВ/мм.

Ю. Н. Николаевым [29] при исследовании зависимости пробивного вы­сокочастотного напряжения от конфигурации электродов и расстояния между ними установлено в широком интервале напряжений, что величина пробивной напряженности не зависит от расстояния между электродами. В ряде работ отмечается, что с увеличением площади электродов пробив­ное напряжение уменьшается. Денхольмом [30] показано, что электроды площадью в 20 см2 при зазоре 1 мм выдерживают напряжение 40 кВ, в то время как при площади 2000 см2 — 20 кВ. Считается, что с увеличением площади электродов растет количество инициаторов пробоя и, следова­тельно, снижается величина пробивного напряжения. Снижение пробив­ного напряжения при одинаковом зазоре, но при большей емкости имеет место в вакуумных конденсаторах.

Материал электродов и состояние их поверхности. Так как возникнове­ние электрического пробоя между электродами в вакууме обусловлено про­цессами, происходящими на поверхности электродов, материал электродов и состояние их поверхности не могут не влиять на величину пробивного напряжения. Одной из первых работ по определению величин пробивного напряжения в вакууме между электродами из различных материалов яв­ляется работа Андерсона [28]. Ниже приведены полученные им значения пробивного напряжения при междуэлектродном расстоянии, равном 1 мм, при приблизительно равномерных полях.

 

Материал электродов

Пробивное напряжение, кВ

Сталь

122

Нержавеющая сталь

120

Никель

96

Монельметалл

60

Алюминий

41

Медь

37

 

 

В последующих многочисленных работах определялось пробивное на­пряжение для электродов из различных материалов. Полученные резуль­таты в отдельных случаях резко отличаются, что может быть объяснено разными условиями подготовки и проведения экспериментов, а также раз­личной методикой определения пробивного напряжения.

В соответствии со всеми гипотезами вакуумного пробоя состояние по­верхности должно значительно влиять на величину напряжения пробоя. Чем ровнее и чище будет поверхность электродов, тем выше должно быть пробивное напряжение при прочих равных условиях. Наличие свободных (прилипших) частиц на электродах, как показали эксперименты Н.Б. Ро­зановой [23], значительно снижает пробивное напряжение вакуумного промежутка. Одиночные микровыступы на поверхности катода являются источниками автоэмиссионных токов и ограничивают возможность повы­шения электрической прочности промежутка. Они могут испытывать в ре­зультате локального усиления поля значительные силы притяжения к про­тивоположному электроду и отрываться от поверхности электродов, что может привести к пробою. Литературные данные по влиянию обработки поверхности электродов на пробивное напряжение разноречивы. Различ­ные загрязнения на электродах могут служить источниками значительной электронно-ионной эмиссии, снижающей величину пробивного напряже­ния. Загрязнения могут отрываться от электродов под действием электро­статических сил, что также снижает электрическую прочность промежутка. В работе [24] показано значительное снижение электрической прочности промежутка при загрязнении поверхности электродов маслом. Денхольм [30] отмечает, что откачка прибора диффузионным насосом без вымора­живающих ловушек снижает величину пробивного напряжения на 8% по сравнению с пробивным напряжением при использовании ловушек.

Состояние поверхности электродов в приборе не остается постоянным. Оно изменяется под действием электрической напряженности, температу­ры и других факторов во времени.

Тренировка поверхности электродов. Существенное влияние на величину и стабильность электрической прочности вакуумного промежутка оказы­вает тренировка (кондиционирование) поверхности электродов. Различают 3 наиболее эффективных вида тренировки: 1) высоковольтная тренировка пробоями; 2) бомбардировка поверхности электродов ионами водорода или других газов; 3) пропускание в течение определенного времени предпро-бойных автоэмиссионных токов.

Высоковольтная тренировка пробоями заключается в постепенном (по мере прекращения микроразрядов и пробоев) подъеме напряжения до достижения уровня насыщения. Во время подъема напряжения от электродов отрываются слабо прилипшие частицы материала электродов и загрязнений, оплавляются или сгорают микровыступы и др. Многими исследователями отмечено, что после прохождения пробоев между элек­тродами на их поверхности остаются следы — на аноде в виде кратеров, на катоде в виде комочков. Проходящие микроразряды и пробои не толь­ко уничтожают источники их инициирования, но и создают новые. Оче­видно, равновесный процесс их уничтожения и создания характеризует уровень насыщения зависимости пробивного напряжения от числа про­боев. При неправильном проведении высоковольтной тренировки можно не только не улучшить электрическую прочность тренируемого прибора, но и необратимо ухудшить ее. Пропускание большой величины тока при пробоях, частые пробои и соответствующее этому обильное газовыделе­ние приводят к выходу приборов из строя. Поэтому при тренировке при­бора в его цепь ставят ограничительное сопротивление. Эксперименталь­но найдено [31], что величина ограничительных сопротивлений должна быть порядка 1 Ом на 1 В напряжения для приборов, работающих в диа­пазоне 30—200 кВ.

Эффективным способом повышения электрической прочности вакуум­ного промежутка является ионная бомбардировка поверхности электродов в тлеющем разряде водорода или инертных газов. Ионная бомбардировка очищает поверхность электродов от пленок неметаллического характера, удаляет микронеровности, возникающие при механической обработке по­верхности, а также слой металла, недостаточно сильно связанный с кри­сталлической решеткой электрода [32]. Режимы обработки в тлеющем раз­ряде определяются материалом электродов и их конфигурацией.

Наконец, третьим способом тренировки электродов является длитель­ное пропускание предпробойных токов. По мере тренировки величина предпробойного тока уменьшается за счет разрушения центров автоэмис­сии, что позволяет повышать прикладываемое напряжение. Обычно совме­щают первый и третий способы тренировки электродов.

Параметры цепи и форма напряжения. В работе [9] обращается особое вни­мание на зависимость пробивного напряжения от параметров электрической цепи: мощности генератора, сопротивления в цепи разряда, емкости электро­дов и непосредственно подключенных к ним элементов или конструкций. От соотношения этих параметров в сильной степени зависит изменение про­бивного напряжения во время тренировки электродов пробоями. При маломощном источнике литания или большом ограничительном сопротивлении в цепи ток при пробое может быть настолько мал, что не сможет оплавить не­однородности на поверхности электродов, возникшие во время протекания предпробойных токов или при предыдущих пробоях. Отмечено, что тренировка поверхности электродов пробоями при большом значении ограничи­тельного сопротивления приводит к увеличению предпробойных токов.

Зависимость пробивного напряжения от емкости электродов и величи­ны ограничительного сопротивления объясняется тем, что емкость опре­деляет в значительной мере ток через промежуток в начальных стадиях тренировки (пробоя), а сопротивление, так же как мощность источника, определяет ток и его продолжительность в заключительной стадии трени­ровки. Выделяемая на электродах при пробоях мощность влияет на состоя­ние поверхности электродов. При большой мощности электроды деформи­руются, распыляются и, в конечном счете, могут расплавиться. Нарушение поверхности электродов зависит от материала их, конфигурации, первона­чального состояния поверхности и т. д. Оптимальные соотношения емко­сти электродов и ограничительного сопротивления при разных условиях могут быть различными. Разумеется, параметры цепи влияют не только и сохранения в приборах высокого вакуума при их работе и хранении в те­чение длительного времени налагает определенные требования к применя­емым материалам, технологическим приемам и операциям, оборудованию и др. Электронная промышленность накопила громадный опыт производ­ства электровакуумных приборов, который использован при разработке и производстве конденсаторов.

В связи с параметрическими и конструктивными отличиями вакуум­ных конденсаторов, необходимостью повышения удельной емкости при за­данном рабочем напряжении и надежности конденсаторов были исследова­ны и разработаны специальные технологические операции.

В настольной книге вакуумщиков «Сорбционные явления в вакуумной технике» Н. В. Черепнина [11] представление гипотез вакуумного пробоя завершается рассмотрением мер по уменьшению интенсивности пробо­ев и искрений в высоковольтных вакуумных приборах. Поступим также и рассмотрим меры по увеличению электрической прочности вакуумных конденсаторов с учетом их конструктивных особенностей.

Вакуум. На рис. 13.14 показана зависимость пробивного напряжения от давления в вакуумном конденсаторе, прошедшем принятый техноло­гический цикл отжига при температуре 500 °С при непрерывной откачке. Условием длительной работы конденсатора является сохранение высокого вакуума в нем в течение срока его сохраняемости (15—20 лет).

В процессе сохраняемости конденсаторов в течение 20 лет выявлено повышение давления в них. Анализ спектра остаточных газов показал, что основными составляющими, за счет которых происходит увеличение давления, являются водород, углеводороды и гелий. В вакуумных конден­саторах с целью снижения и сохранения давления применяются нерас-пыляемые газопоглотители, а в мощных высоковольтных конденсаторах, рассчитанных на токи 400—600 А, используются гетерные насосы. Откачка конденсаторов производится ионно-гетерными насосами, что исключает загрязнения, которые имеют место при использовании масляных насосов. С этой же целью в конденсаторах используется весь арсенал технологи­ческих приемов электровакуумного производства — тщательная очистка деталей внутренней арматуры, обезгаживание их, пайка и сварка в защит­ной среде, высокотемпературный отжиг при непрерывной откачке, меры по предотвращению натекания в процессе гальванической обработки (сере­брение) через металлические детали и др. Реализация этих мер исключает развитие в конденсаторе пробоев, обязанных десорбционным процессам. Переход от металлостеклянных корпусов на металлокерамические снижает натекание по гелию, а отказ от использования коваровых деталей и замена их медными снижает натекание по водороду.

Материал емкостных электродов и способы их обработки.

Материалом емкостных электродов конденсаторов выбирают бескис­лородную медь, имеющую высокую электропроводимость, хорошие ваку­умные свойства, способность хорошо паяться и свариваться, достаточную механическую прочность.

Долговечность и стабильность работы вакуумных конденсаторов зависят от чистоты деталей внутренней арматуры. Поверхностные загрязнения деталей (особенно жировые и поверхностные окислы) вредны, так как являются источниками обильного газовыделения и центрами микроразрядов и про­боев в конденсаторе. После механической обработки (штамповки, точения, фрезерования) детали подвергаются тщательной химической очистке. Было найдено, что электрополировка емкостных электродов дает наилучшие ре­зультаты по повышению электрической прочности конденсаторов.

Независимость тока проводимости переменных конденсаторов от поло­жения подвижного пакета относительно неподвижного (рис. 13.15), а стало быть, от площади электродов (емкости), иллюстрирует, что именно зона тор-цев электродов является основным источником проводимости конденсато­ров. Скругление, сглаживание торцев электродов снижает напряженность электрического ноля и, следовательно, повышает электрическую прочность.

Обработка внутренней арматуры тлеющим разрядом в водороде повы­шает электрическую прочность и введена в технологию изготовления кон­денсаторов. С целью извлечения заусенцев, образовавшихся при операции обрезки и скругления электродов и прикатанных к торцам электродов, целесообразно проведение предварительной тренировки в вакууме тор­цев электродов в пакетах подачей напряжения между пакетом электродов и плоским электродом, расположенным параллельно плоскости торцев.

Разумеется, сборка конденсаторов должна производиться в помеще­ниях, отвечающих требованиям вакуумной гигиены. Наличие свободных частиц, как и гласят гипотезы, резко снижает электрическую прочность конденсаторов.

Конструктивно-технологические меры увеличения электрической прочно­сти конденсаторов.

Точность изготовления деталей и сборки их в соответствии с конструк­торской документацией оказывает определяющее влияние на получение оптимального междуэлектродного зазора и, соответственно, максималь­ной электрической прочности. Одной из основных, задач при изготовлении

 

 

конденсатора является получение соосности цилиндрических аксиальных тонкостенных электродов в пакетах и в конденсаторе. Поэтому сборка, пайка (сварка) и заварка узлов и самого конденсатора производятся с ис­пользованием оправок, позволяющих сохранить концентричность емкост­ных электродов.

Использование откачки по схеме «вакуум в вакууме» позволяет избе­жать деформации выводов конденсатора при высокой температуре, тем са­мым сохранить полученный при заварке оптимальный междуэлектродный зазор, а также исключает необходимость травления металлических выво­дов, что исключает ухудшение вакуума на этой операции.

Важное значение имеет выбор оптимальной толщины переходного ме­таллического кольца, соединяющего керамический корпус и арматуру кон­денсатора, с точки зрения возможности его деформации при изготовлении и эксплуатации конденсатора.

Было отмечено, что при нагревании медных электродов в процессе вы­сокотемпературной пайки (около 800 °С) на их исходной гладкой поверх­ности появлялась шероховатость в виде множества микровыступов высо­той 10—50 мкм. Для исключения появления микровыступов при пайке пакетов, снижающих электрическую прочность вакуумного промежутка, предложен метод защиты за счет использования никелевых улавливателей, хорошо поглощающих пары меди и серебра (пайка производится в водо­роде медно-серебряной эвтектикой).

 

13.3.5. Высоковольтная тренировка конденсаторов пробоями

 

В технологическом процессе изготовления вакуумных конденсаторов высо­ковольтная тренировка их, заключающаяся в последовательном повышении напряжения на конденсаторе по мере прекращения пробоев в нём, является одной из важнейших операций, определяющих качество готовых изделий.

Тренировка конденсаторов производится при непрерывной откачке по­сле высокотемпературного отжига и обезгаживания внутренней арматуры. При возникновении микроразрядов и пробоев в конденсаторе делается вы­держка с тем, чтобы откачать выделившиеся газы. Тренировка производит­ся как напряжением промышленной частоты, так и напряжением высокой (400—800 кГц) частоты.

Проведение тренировки напряжением высокой частоты после трени­ровки напряжением промышленной частоты снижает на порядок ток про­водимости при номинальном напряжении и увеличивает электрическую прочность конденсаторов.

 

13.4. Разработанная номенклатура вакуумных конденсаторов

 

Отечественная промышленность разработала и освоила гамму вакуумных конденсаторов для различного применения.

Основные характеристики разработанных конденсаторов приведены в табл. 13.1.

 

 

Литература

[1]   С. А. Векшинский. Электрический конденсатор постоянной емкости. Патент СССР, № 15878, 13 августа 1927.

[2]   В. Т. Рене. Электрические конденсаторы. Госэнергоиздат, 1959.

[3] В. П. Буц, М.Т. Железнов, М.М. Юринов. Вакуумные конденсаторы. Л.: Энергия, 1971.

[4] Н. П. Богородицкий и др. Графоаналитический метод расчета напря­жения теплового пробоя высокочастотных изоляторов//Электричество. № 12. 1961.

[5] В.Н. Батыгин, И. И. Метелкин, A.M. Решетников. Баку умно-плотная керамика и ее спаи с металлами. М: Энергия, 1973.

[6] Б. М. Царев. Расчет и конструирование электронных ламп. М.: Госэ­нергоиздат, 1961.

[7] Н. П. Богородицкий, В. В. Пасынков, Б. Н. Тареев. Электротехнические материалы. М.: Госэнергоиздат, 1955.

[8] J. G. Trump and R.J. Van de Graaff. The insulation of high voltage in vacuum. J. Appl. Phys., 1947.

[9] И.Н. Сливков и др. Электрический пробой и разряд в вакууме. М.: Атомиздат, 1966.

[10] И.Н, Сливков. Процессы при высоком напряжении в вакууме. М.: Энергоатомиздат, 1986.

[II]   Н.В. Черепнин. Сорбционные явления в вакуумной технике. М: Сов. радио, 1973.

[12] Р. Латам. Вакуумная изоляция установок высокого напряжения. М.: Энергоатомиздат, 1985.

[13] Л. И. Пивовар, В. И. Гордиенко. Микроразряды и предразрядные токи между металлическими электродами в высоком вакууме//ЖТФ. 1958.

[14] В. И. Герасименко. К теории микроразрядов в межэлектродных промежутках//ЖТФ. 1968.                                                          

[15] Н.И. Ионов. К вопросу о механизме предпробойной проводимости междуэлектродных промежутков в вакууме//ЖТФ. I960.

[16] СМ. Брагин, А.В. Вальтер, Н.Н. Семенов. Теория и практика пробоя диэлектриков. М.: ГИЗ. 1929.

[17] И. Н. Сливков. Электрический пробой в вакууме, вызываемый испаре­нием на аноде//ЖТФ. 1968.

[18] A.J. Ahearn. The effect of temperature, degree of thoriation and Breakdown on field currents from tungsten and thoriated tungsten. Phys. Rev., 1936.

[19] W.P. Dyke and J.K. Trolan. Field emission: large current densities, space charge, and the vacuum arc. Phys. Rev,, 1953.

[20] B.A. Горьков и др. Теоретическое и экспериментальное исследование преддуговых явлений при автоэлектронной эмиссии//Радиотехника и электроника. 1962.

[21] Г.Н. Фурсей, П.Н. Воронцов-Вельяминов. Качественная модель ини­циирования вакуумной дуги//ЖТФ. 1967.

[22] L. Cranberg. The initiation of electrical breakdown in vacuum. J. Appl. Phys., 1952.

[23] И. Н. Сливков. О механизме электрического пробоя в вакууме//ЖТФ. 1957.

[24] Н.Б. Розанова. Пробой вакуума, инициируемый макрочастицами/ Изв. АН СССР. Сер. «Физика». 1962.

[25] А. А. Разин и др. Микрокиносъемка поверхностей электродов в пред-пробойной фазе и при электрическом пробое в высоком вакууме// Радиотехника и электроника. 1960.

[26] F. L. Jones, W. D. Owen. Initiatory electron emission and vacuum breakdown. Proc. Phys. Soc, 1964.

[27] Л. В. Тарасова. Десорбционный механизм электрического пробоя в вы­соком вакууме/ДАН СССР. 1966.

[28] H.W. Anderson. Effect of total voltage on breakdown in vacuum. Electr. Engng, 1935.

[29] Ю. Н. Николаев. Исследование высоковольтного разряда в вакууме на частоте 25 МГц//ЖТФ. 1963.

[30] Denholm A. S. et al. The variable capacitance vacuum insulated generator — a progress report. Proc. of the Symp. on Electrostatic Energy Conversion, PIC-ELE 209/1. 1963.

[31] В.И. Раков. Электронные рентгеновские трубки. М.: Госэнергоиздат, 1952.

[32] П. И. Чистяков, Н.В. Татаринова. Повышение электрической проч­ности вакуумного промежутка обработкой электродов сильноточным тлеющим разрядом/Физическая электроника, 3. МИФИ, Атомиздат. 1966.

[33] Л. В. Тарасова, В. Г. Калинин. Исследование электрического пробоя в высоком вакууме. — ЖТФ. 1964.

[34] R. Hawley. Vacuum as an insulator. Vacuum. 1960.

 

ЛЕКЦИЯ 14

РЕЗИСТОРЫ И ИХ КЛАССИФИКАЦИЯ. КОНСТРУКЦИИ. ТЕХНОЛОГИИ

Ледорезов Валерий Григорьевич, д.т.н., профессор, генеральный директор ФГУП «НИИЭМП».  После окончания в 1974 г. Сибирского металлургического института работал в НИИЭМП в качестве инженера старшего инженера, начальника лаборатории, начальника отдела.

 С 2000 по 2004 г. заместитель генерального директора по научной работе, главный инженер.

С 2005 г. по настоящее время генеральный директор ФГУП «НИИЭМП».

Под его руководством разработаны концепция разви­тия ФГУП «НИИЭМП» на период до 2010 г.; комплексный план, предусма­тривающий реструктуризацию и техническое перевооружение предприятия.

Имеет 65 публикаций, 4 монографии, 4 авторских свидетельства на изо­бретения.

Область научных интересов: материалы для пассивной электроники, пас­сивные электронные компоненты, нанотехнологии.

 

Несмотря на то что основными функциональными электронными компо­нентами в составе современной электронной аппаратуры являются полу­проводниковые интегральные схемы различного назначения и исполнения, ни одно электронное устройство сегодня не обходится без резисторов — элементов, предназначенных для обеспечения требуемого распределения токов и напряжений между отдельными участками электрической цепи.

Резисторы имеют историю, уходящую ко времени появления гальвани­ческих элементов. Сегодня объемы мирового выпуска резисторов достигает более 500 млрд шт. в год. В последние годы существования в СССР выпу­скалось около 12 млрд шт. резисторов, разработкой их конструкций, техно­логий, средств производства и выпуском занималось 2 НИИ, 14 ОКБ, всего 50 предприятий, в производстве резисторов было занято около 100 тыс. человек.

В настоящее время в РФ в сфере разработок и производства резисторов занято 12 предприятий. Определились сферы их специализации:

В рамках одной лекции невозможно полно охватить состояние дел в науке о резисторах и их производстве. Вопросы конструирования и тех­нологии изготовления резисторов освещены в работах отечественных раз­работчиков [1—9]

В связи с появлением в последнее время многих типов резисторов дает­ся классификация резисторов и элементы технологии их изготовления.

 

 

 

14.1. Классификация резисторов

Использование резисторов в каждом конкретном случае зависит от типа электронной схемы и применяемых пассивных и активных изделий элек­тронной техники. Ниже приведены некоторые схемные электронные ва­рианты и использование в них постоянных, переменных резисторов и на­боров резисторов.

 

14.1.1.  Резисторы, ограничивающие ток

Схема на рис. 14.1 представляет классический источник питания. Здесь резистор используется для ограничения тока в цепи. В мощных выпрями­тельных источниках питания этот резистор должен выдерживать значи­тельные токи.

 

14.1.2.  Резисторы, обеспечивающие цепь разряда

 

В данном случае резистор (рис. 14.2) необходим для обеспечения долж­ной степени безопасности. Посредством резистора и емкости объединяет­ся земля первичной и вторичной цепей. Это необходимо для устранения остаточных зарядов посредством создания дополнительной цепи разряда. Сопротивление резистора не должно превышать 12 МОм. Другая функция

 

 

 

 

этого резистора — ограничение тока поверхностной утечки, который не должен превысить 0,5 мА. Кроме того, этот резистор должен выдержать напряжение 1000 В в течение 1 мин.

 

 

 

 

14.1.3.  Резисторы для устранения влияния выбросов высокого напряжения

 

Контакт между интегральной схемой видеоусилителя, соединенной с ка­тодом лучевой трубки, может иногда обрываться. Резистор (рис. 14.3), до­бавленный между катодом и схемой усилителя, должен предотвратить по­ломку, поглощая энергию при разряде высокого напряжения. Также он используется для защиты схемы, с которой подаются управляющие напря­жения на электроды G1 и G2.

 

14.1.4.  Терморезистор для температурной компенсации

 

В данной схеме (рис. 14.4) резистор необходим для обеспечения требуемого наклона передаточной характеристики и для компенсации температурных воздействий усилителей высокой частоты.

 

 


14.1.5.  Резисторы осциллятора, управляемого напряжением

 

В данной схеме (рис. 14.5) резистор, стоящий перед варикапом, обеспечи­вает требуемый ток и задает постоянную времени. Резисторы, входящие в состав эмиттерного повторителя, обеспечивают требуемый режим работы рабочего тока базы, а один из них выполняет роль нагрузки эмиттерной цепи для улучшения стабильности характеристик усилительного каскада.

 

14.1.6.  Резистор — датчик тока

 

В измерительных схемах резисторы могут играть роль токовых датчиков. На рис. 14.6 представлен фрагмент схемы для измерения активных сопро­тивлений. Здесь падение напряжения на резисторе будет прямо пропор­ционально значению тока, протекающего в измерительной цепи.

 

14.1.7.  Наборы резисторов для построения ЦАП и АЦП

 

На рис. 14.7 представлен вариант построения ЦАП подсхеме параллельно-взвешенного включения.

 

 

 

Схема содержит источник опорных напряжений Ug, набор ключей (ко-доуправляемый коммутатор) и набор двоичновзвешенных резисторов.

Каждый разряд входного двоичного цифрового кода управляет своим ключом и формирует ток, пропорциональный весу разряда. Токи суммиру­ются сумматором, построенным на операционном усилителе.

Пример 4-разрядного ЦАП, построенного на резистивной сетке типа R-2R, приведен на рис. 14.8.

Эта сетка очень технологична в изготовлении, поскольку содержит ре­зисторы только двух номинальных значений сопротивления. Выходное со­противление данной схемы всегда постоянно, а выходное напряжение про­порционально сумме напряжений соответствующих разрядов.   

Наборы резисторов также применяются для построения АЦП парал­лельного преобразования, образуя многоуровневый делитель напряжения, выходные напряжения которого пропорциональны соответствующим раз­рядам (рис. 14.9).

Пример использования переменного резистора для регулировки коэф­фициента усиления приведен на рис. 14.10.

Классификация резисторов может осуществляться по ряду признаков, присущих многим изделиям электронной техники: назначению, способу монтажа, способу защиты и т. п. Здесь приводится подход автора, основы которого предложены в статьях [10—12].

Первым классификационным признаком должен быть технологический принцип формирования резистивного элемента, представляющего собой структуру резистивного материала и проводящих контактов. Такими осно­вополагающими технологическими принципами формирования резистив­ного элемента являются тонкопленочная, толстопленочная, проволочная и металлофольговая базовые технологии. В свою очередь, каждая из пере­численных технологий подразделяется в соответствии с существующими нюансами на подтехнологии. Например, тонкопленочная технология фор­мирования резистивного элемента подразделяется на технологии вакуум­ного термического, магнетронного или ионно-плазменного напыления, осаждения тонких слоев из газовой фазы (пиролитическое осаждение) и др. Тонкопленочные резисторы изготавливаются на основе металлодиэлектрических, металлоокисных и металлизированных рфистивных материалов в виде микрокомпозиционного слоя из диэлектрика и металла, или тонкой

 

 

 

пленки металла, окиси металла, или сплава углеродистых и бороуглеродистых проводящих материалов.

По толстопленочной технологии изготавливаются керметные, лакосажевые резисторы и изделия на основе проводящих пластмасс. Толстопле­ночные резистивные материалы представляют собой гетерогенную систему (композицию), состоящую из нескольких фаз. Резистивные композиции по­лучают механическим смешиванием проводящего компонента (например, графита, металла или оксида, борида, карбида металлов и т. д.) с органиче­скими или неорганическими связующими (смолы, стекла и стеклоэмали), наполнителем, пластификатором и отвердителем. После соответствующей термообработки образуется монолитный гетерогенный слой с необходи­мым комплексом параметров.

По толстопленочной технологии изготавливаются и объемные рези­сторы, которые могут быть с органическим и неорганическим связующим диэлектриком. В объемных резисторах в качестве связующего компонента используют органические смолы или стеклоэмали. Проводящей фазой яв­ляется сажа.

Подобные нюансы существуют и в других технологиях.

В общем случае с использованием базовых технологий изготавлива­ются резисторы и резисторные компоненты различного конструктивно­го исполнения: постоянные и переменные резисторы, терморезисторы, наборы резисторов, комбинированные резистивные компоненты как на основе резисторов различных конструкций (например, постоянных и переменных резисторов), так и на основе других классов изделий элек­

тронной техники (например, R-C наборы) или резистивные компонен­ты, сформированные на поверхности полупроводниковых материалов (рис. 14.11).

По характеру изменения сопротивления все резисторы подразделяются на постоянные и переменные. Последние, в свою очередь, делятся на подстроечные, регулировочные резисторы и потенциометры.

Постоянные резисторы имеют фиксированное сопротивление, которое в процессе эксплуатации не регулируется. Переменные резисторы допуска­ют изменение сопротивления в процессе их функционирования в аппа­ратуре. Сопротивление подстроенных резисторов изменяется при разовой или периодической регулировке и не изменяется в процессе функциониро­вания аппаратуры.

 

 

Перемещение контактной пружины по резистивному элементу может обеспечиваться за счет различных кинематических схем, которые, напри­мер, для керметных резисторов приведены в [11].

Переменные резисторы по конструкции могут быть выполнены:

одноэлементными  и  многоэлементными  (сдвоенные,  строенные и счетверенные);

•    с круговым и прямолинейным перемещением подвижного контакта; однооборотными и многооборотными;

•    с выключателем и без выключателя;            *

•    с упором и без упора;

•  с фиксацией и без фиксации положения подвижной системы;

•    с дополнительными отводами и без них.

При выбранном конструктивном исполнении резисторов или резисторных компонентов следующим классификационным признаком является тип монтажа изделия на печатной плате: объемный или поверхностный. Тип монтажа зачастую определяет форму и конфигурацию резистора или набора резисторов, вид и расположение выводов или их отсутствие (чип резисторы) и т. д.

Основная доля выпускаемых в настоящее время резисторов и резисторных компонентов выпускается для автоматизированного поверхностного монтажа. Самыми массовыми поверхностно монтируемыми резисторами являются дискретные чип резисторы. При этом доля потребления миниа­тюрных и суперминиатюрных чип резисторов с каждым годом постоянно увеличивается, если 4—5 лет тому назад основными чип резисторами яв­лялись резисторы серии 0603 и 0805 серии, то сегодня это чип резисторы серии 0402 и 0201. В ближайшее время следует ожидать массовое примене­ние чип резисторов серии 1005 (размеры 0,4x0,2 мм).

В чип исполнении изготавливаются и наборы резисторов, при этом для чип наборов резисторов, в основном, используются керамические корпуса типа SON. Контактные площадки в этих корпусах могут располагаться как на плоских участках боковой поверхности, так называемые convex — кон­такты, так и в скругленных углублениях concave — контакты. За счет ис­пользования таких корпусов происходит самоориентация набора резисто­ров на печатной плате при пайке.

Корпусированные наборы резисторов также выпускаются для поверхност­ного монтажа, для этих целей используют корпуса типов SOIC, QSOIC и др.

Подстроечные резисторы открытого и закрытого типов практически все в настоящее время являются поверхностно монтируемыми.

Резисторы или резисторные компоненты для навесного монтажа могут иметь жесткие или мягкие выводы, аксиальные, пленарные или радиаль­ные из проволоки круглого сечения или ленты, в виде лепестков и т. п.

В зависимости от способа защиты от внешних воздействующих факто­ров резисторы конструктивно выполняются изолированными, неизолиро­ванными, герметизированными.

Неизолированные резисторы (с покрытием или без покрытия) не до­пускают касания своим корпусом печатной платы или шасси аппаратуры. Напротив, изолированные резисторы имеют достаточно хорошее изоляци­онное покрытие (лаки, компаунды, пластмассы и т. п.) и допускают каса­ния корпусом печатной платы или токоведущих частей аппаратуры.

Герметизированные резисторы имеют герметичную конструкцию кор­пуса, которая исключает возможность сообщения окружающей среды с его внутренним пространством. Герметизация осуществляется за счет исполь­зования металлостеклянных или металлокерамических корпусов, а также с помощью опрессовки специальными компаундами.

Резисторы могут изготавливаться в защищенном и незащищенном ва­риантах. Защищенные допускают эксплуатацию в условиях повышенной влажности в аппаратуре любого конструктивного исполнения, незащи­щенные — только в составе герметизированной аппаратуры или в корпусах микросхем.

Заключительным классификационным признаком являются назначение и область применения резисторов и резисторных компонентов. Именно об­ласть применения и назначение данного класса изделий электронной техни­ки определяют всю широчайшую гамму номенклатурно-параметрических рядов резисторов и резисторных компонентов.

В зависимости от назначения резисторы делятся на резисторы обще­го назначения и специальные (прецизионные и суперпрецизионные, вы­сокочастотные, высоковольтные, высокомегаомные, низкоомные, мощные и др.).

Резисторы общего назначения используются в качестве различных на­грузок, поглотителей и делителей в цепях питания, элементов фильтров, в цепях формирования импульсов и т. п. Диапазон номинальных сопро­тивлений таких резисторов 1 Ом... 10 МОм, номинальные мощности рас­сеяния 0,062...100 Вт. Допускаемые отклонения сопротивления от номи­нального значения ±1; +2; ±5; ±10; ±20%.

Прецизионные и суперпрецизионные резисторы отличаются высокой стабильностью параметров при эксплуатации и большой точностью из­готовления (от ±0,0005 до 0,5%). Они применяются в измерительных при­борах, вычислительной технике и системах автоматики. Диапазон их но­минальных сопротивлений в ряде случаев шире, чем резисторов общего назначения. Например, в качестве шунтов используют резисторы с номи­нальным сопротивлением менее 1 Ом, а в эталонных катушках и магази­нах сопротивлений применяют резисторы с номинальным сопротивлени­ем до сотен гигаом. Мощности рассеяния их сравнительно небольшие и, как правило, не превышают 2 Вт. Объясняется это высокими требования­ми к стабильности, которые трудно выполнить при больших мощностях рассеяния.

Высокочастотные резисторы отличаются малыми значениями индук­тивности и емкости, предназначены для работы в высокочастотных цепях, кабелях и волноводах радиоэлектронной аппаратуры в качестве согласую­щих нагрузок, аттенюаторов, направленных ответвителей, эквивалентов антенн и т. п. Непроволочные высокочастотные резисторы способны рабо­тать на частотах до сотен МГц и более, а высокочастотные проволочные — до сотен кГц.

Высоковольтные резисторы рассчитаны на большие рабочие напряже­ния (от единиц до десятков киловольт). Они используются в качестве вы­соковольтных делителей напряжения, искрогасителей, поглотителей, в за­рядных и разрядных высоковольтных цепях и т. п.

Высокомегаомные резисторы имеют диапазон номинальных сопротив­лений от десятков мегаом до единиц тераом и рассчитаны на небольшие рабочие напряжения (100...400 В), поэтому они работают в ненагруженном режиме, и мощности рассеяния их малы (менее 0,5 Вт). Высокомегаомные резисторы применяют в электрических цепях с малыми токами, в прибо­рах ночного видения, дозиметрах и измерительной аппаратуре.

Представленный на рис. 14.11 подход к классификации резисторов и резисторных компонентов имеет квазилинейный характер и выражает только алгоритм решения данной проблемы. В реальных условиях клас-сификация имеет характер «цепной реакции», и каждый высший элемент классификационной схемы дает от 2 до десятка элементов классификации более низкого уровня.

Перед разработчиками и производителями электронной аппаратуры практически всегда стоит дилемма, какую электронную комплектации заложить в аппаратуру. Каждый из разработчиков решает эту задачу по-своему.

Наиболее старой технологией изготовления резисторов является про­волочная технология. В настоящее время проволочные резисторы имеют ограниченное использование, что связано с особенностями технологии их изготовления и низким уровнем частотных характеристик. Традиционная проволочная технология имеет дискретный характер и достаточно сложно поддается автоматизации. Однако данное технологическое ограничение из­готовления проволочных резисторов было устранено фирмой «Yageo» при производстве негорючих нагрузочных проволочных резисторов типа SQP в case — керамических корпусах. Данное технологическое ограничение устранено за счет намотки резистивной проволоки на стеклонить, что обе­спечивает непрерывность технологического процесса изготовления данных резисторов. Проволочным прецизионным резисторам практически нет за­мены при производстве прецизионной аппаратуры.

Пожалуй, самыми массовыми резисторами являются керметные тол­стопленочные. Преимущество керметных толстопленочных резисторов перед другими обеспечивается спецификой технологии их изготовления, которая базируется на принципах порошковой металлургии нанодисперсных порошков; основывается на элементах планарной полупроводнико­вой технологии и методе трафаретной печати, заимствованной из поли­графии. Симбиоз этих технологий обеспечивает массовый, практически непрерывный и безотходный технологический процесс изготовления ре­зисторов, отличающийся незначительными энергетическими- затратами. В том случае, когда требуются резисторы общего или полупрецизионного класса, данные резисторы имеют наиболее предпочтительное применение из-за оптимального соотношения «цена — качество». С использованием данной технологии изготавливается широчайшая гамма резисторов и ре-зисторных компонентов, охватывающая практически все существующие номенклатурно-параметрические ряды резисторов и резисторных компо­нентов.

По толстопленочной керметной технологии изготавливаются изделия различного конструктивного исполнения: постоянные, переменные и на­боры резисторов. При этом основная масса постоянных и переменных кер­метных резисторов и наборов резисторов выпускается в чип исполнении для автоматизированного поверхностного монтажа. Анализ рынка кермет­ных резисторов и основные сведения о данных пассивных компонентах приведены в статьях автора [10—12].

Толстопленочные лакосажевые резисторы и резисторы на основе прово­дящих пластмасс используются, в основном, для изготовления переменных резисторов. Однако, учитывая, то, что в современной электронной аппа­ратуре используются сенсорные методы плавного регулирования энергетическими потоками, использование, и, соответственно, производство таких резисторов в настоящее время уменьшается из-за их ограниченного при­менения.

Технический уровень и основные тенденции развития производства ре­зисторов и резисторных компонентов, в первую очередь, определяются из­делиями, имеющими уникальные параметры по временной и температур­ной стабильности сопротивления, по величине токовых шумов, по точности обеспечения номинального сопротивления и т. д. Такими уникальными характеристиками обладают прецизионные и суперпрецизионные резисто­ры, изготавливаемые по металлофольговой технологии. Точностные пара­метры и стабильность электрических и эксплуатационных характеристик металлофольговых резисторов находятся на уровне вторичных эталонов сопротивления. Именно в этих резисторах достигаются в настоящее время рекордные характеристики, которые невозможно достичь за счет примене­ния других технологий.

Разработка металлофольговых резисторов стала возможной благодаря глу­бокой научной проработке, использованию прогрессивных групповых техно­логий и специальных конструкторских и материаловедческих решений.

Прецизионные и суперпрецизионные металлофольговые резисторы определяют научно-технический прогресс в смежных областях, исполь­зующих эти изделия, и способствуют созданию прецизионной радиоэлек­тронной аппаратуры, приборов и комплексов для общепромышленного и военного назначения, отличающихся высокой точностью, стабильностью, надежностью и качеством.

Тонкопленочная технология также, как и толстопленочная, обеспечи­вает разработку и производство широчайшей номенклатуры изделий, на­чиная от изделий общего применения и заканчивая изделиями специаль­ного назначения, включая полупрецизионные и прецизионные резисторы. Но, пожалуй, наибольшее применение данная технология находит при производстве наборов резисторов как простых, так и специальных, в том числе и заказных.

Незаменимым является использование тонкопленочной технологии при производстве резистивных сеток типа R-2R, которые являются основным элементом любой цифро-аналоговой и аналогово-цифровой схемы (ЦАП и АЦП). Замены тонкопленочной технологии сегодня не существует, когда речь идет о прецизионных гибридных ЦАП и АЦП, которые имеют самые высокие метрологические характеристики для данного класса изделий. Если говорить о точности и прецизионности тонкопленочных резисторов и резисторных компонентов, то в настоящее время изделия, изготавливае­мые по данной технологии приближаются по уровню параметров к издели­ям на основе металлофольговой технологии.

Пензенским НИИЭМП за время его существования разработано более 250 типов резисторов и резисторных компонентов (рис. 14.12), производ­ство которых осуществляется нашим институтом. Он сегодня представ­ляет собой по сути производственно-научную фирму. Российские пред­приятия резисторостроения также выпускают резисторы, разработанные НИИЭМП.

 

 

 

В настоящее время НИИЭМП располагает практически всеми резистивными технологиями и занимается разработкой и производством рези­сторов и резисторных компонентов различного назначения для использова­ния в различных отраслях народного хозяйства и в интересах министерства обороны.

Таким образом, резисторы и резистивные компоненты имеют широ­чайшую гамму номенклатурно-параметрических рядов, удовлетворяю­щие жестким требования современного рынка радио-, теле-, аудиоап­паратуры.

Практически вся выпускаемая в настоящее время резистивная компо­нентная база выпускается в блистер-упаковке, в специальных тарах, что позволяет осуществлять автоматизированный поверхностный и навесной монтаж данных компонентов на печатную плату.  

              

14.2. Конструкции и технологии изготовления резисторов

14.2.1. Проволочные резисторы

14.2.1.1. Постоянные проволочные резисторы

 

На рис. 14.13 представлена конструкция сверхпрецизионного резистора. Ее особенность в корпусе и металлостеклянном изоляторе, через которые пропущены вывода резистора. Изоляторы привариваются лазерной свар­кой к кожуху.

В зависимости от типа резистора и условий его эксплуатации исполь­зуют проволоки из различных сплавов: фехраля, константана, мангани­на, нихрома, сплавов на никелевой основе и др. Применение проволок из первых трех сплавов в прецизионных резисторах нежелательно — они имеют низкую коррозионную стойкость и низкое удельное сопротивление, манганин имеет узкий интервал температур, в котором сохраняется малая величина ТКС.

Разработанный в 60-х годах ИПС ЦНИИЧМ сплав на никелевой осно­ве типа Н80ХЮД является до сих пор не превзойденным для использова­ния в прецизионных резисторах.

Основной операцией при изготовлении проволочных резисторов явля­ется намотка проволоки на каркас. Производится она на типовых или спе­циально изготовленных намоточных станках с обеспечением необходимого натяжения проволоки. Для прецизионных резисторов намотку нужно ве­сти при минимально возможном усилии натяжения проволоки. Известно, что чем больше диаметр каркаса, тем выше стабильность резисторов.

Важное значение для обеспечения высокой стабильности имеет герме­тизация резисторов. Резисторы герметизируют с помощью металлических цилиндров, в которые помещаются резистивные элементы, имеющие по обе стороны чашки с герметизированными выводами. Чашки припаивают или привариваются к торцам цилиндров. Стабильность герметизирован­ных резисторов в несколько раз выше стабильности негерметизированных за счет исключения (уменьшения) поверхностного окисления резистивной проволоки.                                                                               Важное значение для повышения стабильности резисторов имеет их тренировка — старение при повышенной температуре. Режимы старения для разных резисторов подбираются экспериментально в зависимости от конструкции и технологии изготовления. Оптимальный выбор конструк­ции и технологии позволяет получить стабильность, вернее нестабильность резисторов до 0,001%. Показана возможность получения резисторов с не­стабильностью 0,0005%.

Одной из важнейших операций является присоединение резистивной проволоки к колпачку. Из многих видов соединений — холодной сварки, ультразвуковой, лазерной, электроннолучевой, пайки, склеивания токопроводящими клеями предпочтение отдается контактной сварке, экономи­чески выгодной, позволяющей автоматизировать процесс и обеспечиваю­щей приемлемое контактное сопротивление (2—8)х 10~4 Ом при различных диаметрах проволоки — от 0,01 до 0,4 мм и его стабильность в процессе эксплуатации. Подготовка поверхности перед сваркой включает ряд опера­ций: удаление масла, жировых пленок и других загрязнений, пассивирова­ние поверхности, промывку, сушку.

 

 

 

 

 

В технологическом цикле изготовления резисторов важное значение имеют операции, направленные на получение минимального ТКС. Прежде всего это старение проволоки при повышенных температурах. Для этого проволока наматывается на металлические катушки и подвергается нагре­ву в течение определенного времени. ТКС проволок меняется с увеличени­ем температуры старения. Так, ТКС после старения проволоки Н80ХЮД при температуре 430 °С в течение 3 ч уменьшается в 1,5—2 раза, а при температуре 560 °С — в 3—10 раз. Меняется и знак ТКС в зависимости от режимов. Режимы старения для получения минимального ТКС подбира­ются экспериментально, так как велико влияние первоначальных условий обработки проволоки у поставщика.

Усилие натяжения при намотке значительно влияет на ТКС резистивного элемента. ТКС после намотки на керамический каркас меняется в 15—20 раз. Мерой получения минимального ТКС может быть использо­вание демпфирующего подслоя на основе каучука. Использование подслоя дает возможность снизить усилие натяжения проволоки при намотке, за­щищает резистивный элемент от влияния усадочного давления заливочного компаунда.

Отмечено влияние термоударов и скорости изменения температур на изменение ТКС. Изменение ТКС имеет место после заливки резистора.

Выбором средств уменьшения влияния на изменение ТКС в процессе изготовления удается получить резисторы с ТКС, равным ±1х10 -6 с

 

14.2.1.2. Переменные проволочные резисторы

 

Переменные проволочные резисторы разделяют на подстроечные и регулировочные. Если у подстроечных количество циклов перестройки состав­ляет несколько сотен, то у регулировочных оно достигает единиц миллио­нов и больше.

Конструкции переменных проволочных резисторов и технологии их из­готовления описаны в [16—18]

На рис. 14.14 представлена конструкция многооборотного проволочно­го резистора.

Резистивный плоский элемент 9 расположен в корпусе 5 и закрыт крышкой 1, винт 7 перемещается вдоль резистивного элемента 9, изменяя сопротивление плеч резистора.

 

 

 

 

 

 

Конструкция резистора однооборотного представлена на рис. 14.15.

В основание 1, армированное выводами 2, вклеиваются резистивный элемент 3 и токосъемник 4, соединенные проводниками с выводами. Дер­жатель 5, диск 6 и контактная пружина 7, жестко связанные между собой, составляют контактный узел. Направляющей для контактного узла внизу служит токосъемник, а вверху — корпус 8. Уплотнительное кольцо 9 слу­жит для герметизации резистора. Упор 10 служит для ограничения пово­рота контактной пружины.

Технологический процесс изготовления резистивного элемента вклю­чает изготовление каркаса, намотку резистивного провода на каркас, про­питку обмотки лаком, термообработку обмотки, зачистку контактной до­рожки.

Основным узлом проволочного переменного резистора является рези­стивный элемент, состоящий из проволоки, намотанной на изоляционный каркас. Скользящий контакт перемещается по предварительно зачищен­ным (при использовании изолированной проволоки) участкам элемента так, что он касается следующего витка прежде, чем сходит с предыдущего, чтобы не нарушилось контактирование. Требование к резистивной про­волоке переменных резисторов аналогичны требованиям к проволоке по­стоянных, дополнительно проволока должна иметь малое и стабильное во времени контактное сопротивление в паре с материалом скользящего ма­териала. Для низкоомных резисторов используются сплавы благородных металлов — палладия, серебра, золота; для высокоомных — сплавы никеля с хромом (Х15Н60, Х20Н80 и др.)

К регулировочным резисторам относятся резисторы РП, ППБ, ПП и ППЗ-40 — ППЗ-47. Эти резисторы изготавливаются заводом «Контакт» (г. Йошкар-Ола).

Основная ответственность за качество работы резистора ложится на контактную пару. К ней предъявляется ряд требований: малая величина и стабильность контактного сопротивления, высокая износоустойчивость, широкой диапазон удельных, сопротивлений для резистивной проволоки, малая величина термоэлектродвижущей силы между контактирующи­ми элементами, малая величина ТКС для резистивной проволоки и др. Для подстроечных резисторов с сопротивлением до 100 Ом в качестве материала контактов выбирают сплавы палладия и серебра (Pd — 20%, Ag — 80%; Pd — 60%, Ag — 40%), имеющие удельное электрическое со­противление в десятке доли Ома. Однако эти сплавы по износоустойчи­вости и стабильности контактного сопротивления хуже, чем контакты из сплава палладий-вольфрам, используемые для регулировочных резисторов. Контактное усиление играет большое значение для характеристик резисто­ра. При контактном усилии 30 Г обеспечивается 10—30 тыс. циклов, при усилии 5—10 Г износостойкость увеличивается до сотен тысяч. Для уве­личения износостойкости в резисторах используются смазки типа ЦИА-ТИМ-221 и др.

 

 

14.2.2. Керметные резисторы

14.2.2.1. Постоянные керметные резисторы

Керметный плоский резистор представляет собой керамическую пластин­ку прямоугольной формы с двумя нанесенными по торцам огибающими контактными площадками. Общий вид конструкции керметного чип-резистора для поверхностного монтажа приведен на рис. 14.16.

Размерный ряд чип-резисторов обычно включает следующие серии: 0201, 0402, 0603, 0805, 1206, 1210, 2010, 2512. Геометрические, электриче­ские и эксплуатационные параметры чип-резисторов общего применения приведены в табл. 14.1.

Основной тенденцией развития изделий электронной техники является их миниатюризация, это в полной мере относится и к резисторам. При этом с течением времени спрос на резисторы с большими массо-габаритными характеристиками уменьшается и возрастает спрос на более миниатюрные изделия.

По чип-технологии изготавливаются не только чип-резисторы обще­го применения, но и резисторы специального назначения. К специальным чип-резисторам относятся прецизионные, низкоомные, сверхнизкоомные, высоковольтные, высокоомные и др.

Стабильность сопротивления прецизионных чип-резисторов находится на уровне 0,5%.

Низкоомные и сверхнизкоомные чип-резисторы обеспечивают сопро­тивление соответственно в диапазонах 0,05... 1 Ом и 1...5 мОм.

 

 

 

 

Высоковольтные чип-резисторы обычно перекрывают диапазон сопро­тивлений 10... 107 Ом, имеют рабочее напряжение до 400 В. Сопротивление высокоомных чип-резисторов достигает 50 ГОм, стабильность сопротивле­ния на уровне 20%.

С использованием керметных резистивных материалов изготавлива­ется широкая гамма дискретных резисторов для объемного монтажа раз­личного назначения. Обычно это специальные изделия: высокоомные и высоковольтные, мощные и сверхмощные, малоиндуктивные и низкоомные устройства. Конструктивное исполнение их также отличается зна­чительным многообразием: выпускаются изделия с радиальными и акси­альными выводами, безвыводные, плоские с механическим креплением

на плате и т. д.

Базовая конструкция цилиндрического дискретного резистора представ­лена на рис. 14.17. На керамическое основание цилиндрической формы ме­тодом трафаретной печати наносится резистивный слой. Заданное значение номинального сопротивления достигается использованием специальных ре-

 

 

зистивных паст и за счет соответствующего рисунка

 резистивного элемента, обычно имеющего форму

спирали. Спиралевидный вид резистивного элемента обеспечивается трафаретной печатью. Меняя ширину и шаг спирали, можно в широком диапазоне  регулировать величину сопротивления резистора.

Электрический контакт резистивного слоя осуществляется с помощью вывода, который приваривается к металлическому колпачку. Колпачки плотно натя­гивают на торцы керамического основания. Для надежности электрического соединения на боковые края керамического основания в области контакта

с колпачком может быть нанесен дополнительный контактный слои.

Электрическое    сопротивление    резистивного элемента с выводами на армированных колпачках при необходимости под­гоняют к заданной величине. Подгонка осуществляется лазерным или ме­ханическим способом.

Сформированный резистивный элемент с помощью защитных покры­тий изолируют от воздействий окружающей среды. Применяют защитные покрытия на основе эпоксидных смол, органосиликатных покрытий, сте­клянных защитных пленок и т. д.

Наиболее распространенными в настоящее время являются мощные пленарные резисторы с радиатором, обеспечивающие электрическую мощ­ность до 100 Вт. Базовая конструкция такого резистора представлена на рис. 14.18

Этот резистор состоит из отпрессованного корпуса с керметным резистивным слоем внутри. Увеличенный теплоотвод от резистивного элемента обеспечивается металлическим радиатором и мощными выводами. Рези­стор через отверстие в радиаторе с помощью крепежной оснастки плотно прижимается к электрической плате, что также увеличивает теплоотвод.

Производством мощных резисторов занимаются фирмы Coddack, Ohm-ete и ТТ Electronics.

14.2.2.2. Подстроенные керметные резисторы

 

Резистивный элемент для подстроечных резисторов обычно имеет или прямоугольную, или подковообразную топологию. Величина номинально­го сопротивления резистивного элемента подстроечного керметного рези­стора обеспечивается за счет применения паст различного удельного по­верхностного сопротивления. Для подстроечных резисторов используются специальные резистивные пасты, отличающиеся низким и стабильным переходным сопротивлением между резистивным слоем и контактной пру­жиной, имеющие диапазон удельных поверхностных сопротивлений от 1 до 5х106 Ом/. Внешний вид подстроечного резистора может быть самым разнообразным: от простых прямоугольных и квадратных до цилиндриче­ских и более сложных форм.

По кинематической схеме перемещения контактной пружины относи­тельно резистивного элемента подстроенные керметные резисторы также отличаются большим разнообразием:

•     однооборотные с круговым перемещением (рис. 14.19);

•     многооборотные с круговым перемещением;

•     многооборотные с линейным перемещением.

Реализация данных кинематических схем достигается за счет различ­ных технических решений.

 

 

Для обеспечения плавной регулировки в настоящее время используют­ся многооборотные резисторы с различными кинематическими варианта­ми исполнения.

Таких кинематических схем можно выделить три:   >

1)    подстроечный резистор кругового вращения с червячным механиз­мом (рис. 14.20, 14.21);

2)    подстроечный резистор кругового вращения с шестеренчатым меха­низмом (рис. 14.22);

3)    подстроечный резистор с прямолинейным перемещением с исполь­зованием пары «винт — гайка» (рис. 14.23).

Основные тенденции современного развития подстроечных керметных резисторов, как и других электронных компонентов, состоят в миниатюри­зации и создании изделий для автоматизированного поверхностного мон­тажа. Изделия, выпускаемые передовыми зарубежными фирмами, в пол­ной мере удовлетворяют этим требованиям.

Качество контактной пружины определяет эксплуатационные характе­ристики керметных миниатюрных подстроечных резисторов. В 70—80-е гг. XX века контактные пружины изготавливались с помощью вырубных штампов. Данная технология формообразования контактных пружин не позволяет изготавливать контактные пружины современных резисторов, так как ширина «лапок» контактирования, получаемая с использованием традиционной штамповки, сегодня соизмерима с шириной контактной пружины. В связи с этим для увеличения точек контактирования в ми­ниатюрных резисторах стали использоваться многолапковые пружины, из­готавливаемые из проволок на основе контактных сплавов. Диаметр ис-

 

пользуемых проволок составляет 100...200 мкм, что позволяет на базе 1 мм получить 5... 10 независимо перемещающихся контактных «лапок».

Упрощенная конструкция контактной пружины приведена на рис. 14.23,а. Для обеспечения механической целостности контактной пру­жины используются пластинки жесткости (одна или две), которые с по­мощью контактной сварки соединяются с пакетом набранных проволок. Данные пластинки — перемычки привариваются к проволокам при фор­мировании полотна, после формообразования контактной пружины на ней остается одна или две пластинки жесткости.

Для изготовления таких многолапковых проволочных пружин ис­пользуются специальные автоматы. Эти автоматы формируют полотно из контактных проволок и разваривают пластины — перемычки на изготов­ленное полотно. Формообразование контактных пружин осуществляется с помощью гибочных прецизионных штампов. Технологические пластин­ки — перемычки в процессе гибки или после ее удаляются. Технология получения проволочных контактных пружин дискретная, что является ее недостатком.

В современных конструкциях переменных резисторов используется так называемая беззазорная контактная пружина на основе тонкой ленты из контактных сплавов (рис. 14.23,5). Технология изготовления беззазорных контактных пружин лишена недостатков технологии многопроволочных контактов. Принципиально данная технология является непрерывной. Лента с изготовленными контактными пружинами может являться тех­нологическим носителем и использоваться в процессе автоматизирован­ной сборки подстроечных резисторов. Конструктивная целостность такой пружины обеспечивается самой пружиной и не требуется дополнительных соединительных элементов и узлов жесткости. Изготовление данных кон­тактных пружин основано на использовании уникального прецизионного оборудования и оснастки, а сама технология является «ноу-хау» фирм из­готовителей.

В НИИЭМП, начиная с начала 80-х годов XX века, разработана ши­рокая гамма подстроечных резисторов на основе толстопленочной техно­логии:

• резисторы открытого типа для поверхностного монтажа типа РШ-75 (SMD серия) с габаритными размерами 4,7x3,9 мм; 5,5x4,8 мм;

•     резисторы для объемного монтажа с роторным механизмом враще­ния, закрытого типа с верхним и торцевым расположением регули­ровочного винта типа РШ-60 с габаритными размерами 4,7x3,9 мм; 5,5x4,8 мм;

•     резисторы для объемного монтажа с роторным механизмом враще­ния, закрытого типа с верхним расположением регулировочного винта типа СПЗ-44 с габаритными размерами диаметром 5,6 и вы­сотой 4 мм;

•  резисторы для объемного монтажа с роторным механизмом враще­ния открытого типа с верхним и торцевым расположением регулиро­вочного винта типа РШ-61 с габаритными размерами 12,2x10 мм; резисторы для объемного монтажа с червячным механизмом враще­ния, закрытого типа с верхним и торцевым расположением регулиро­вочного винта типа РШ-85 с габаритными размерами 11,4x10 мм;

•     резисторы для объемного монтажа с червячным механизмом враще­ния, закрытого типа с верхним и торцевым расположением регулиро­вочного винта типа РШ-85 с габаритными размерами 11,4x10 мм;

•     резисторы для объемного монтажа с механизмом вращения «винт — гайка»  типов  РШ-48,   РШ-53   с  габаритными  размерами   12x4 и 28x11 мм, соответственно;

•  резисторы для поверхностного монтажа с червячным механизмом вращения, закрытого типа с верхним и торцевым расположением регулировочного винта типа РШ-131 с габаритными размерами х10 мм.

 

14.2.2.3. Наборы керметных резисторов

 

Использование наборов резисторов обеспечивает увеличение плотности монтажа по сравнению с дискретными резисторами. В одних и тех же га­баритах на резистивной плате может быть сформирована увеличенная их плотность за счет уменьшения соединительных проводниковых и присо­единительных элементов между ними и печатной платой. Элементы на­бора резисторов и их внутренние и наружные соединения формируются в едином технологическом цикле за счет толстопленочной керметной тех­нологии, поэтому значительно повышается их надежность по сравнению с дискретными резисторами. Учитывая единый технологический цикл из­готовления наборов резисторов, они имеют незначительный разброс пара­метров на плате, что особенно важно, когда данные наборы резисторов ис­пользуются в качестве делителей напряжения или резистивных сеток типа R/2R. Уменьшается количество монтажных операций на печатной плате по сравнению с монтажом дискретных элементов. Не менее маловажным фак­тором является применение для изготовления наборов резисторов стан­дартных унифицированных корпусов, что позволяет использовать единое -сборочное и монтажное оборудование, которое применяется для монтажа наиболее массовых изделий электронной техники.

Стоимость наборов резисторов также значительно ниже в пересчете на один дискретный резистивный элемент, так как керметные резисторы

изготавливаются на основе элементов планарной полупроводниковой технологии, что позволя­ет автоматизировать и механизировать их про­цесс изготовления.

Наборы резисторов для поверхностного монтажа отличаются большим разнообразием и делятся на корпусированные изделия и чип-наборы. Базовыми конструкциями корпусиро-ванных наборов резисторов для поверхностно­го монтажа являются изделия в SOT, SOMC, QSOIC корпусах (рис. 14.24). Отличие данных корпусов друг от друга состоит в некоторых конструктивных особенностях их выводных контактов

Как правило, эти корпуса имеют выводную рамку  с   16  контактами.   Размеры  корпусов

и рассеяния (шаг) между контактами нормируются в соответствии с меж­дународными стандартами и типичный шаг между выводами составляет 1,27 мм.

Типичные характеристики наборов керметных резисторов следующие:

•     стандартный диапазон сопротивлений — 10...106 Ом;

•     диапазон рабочих температур — —55...+125 °С;

•     температурный коэффициент сопротивления — ±100х 10-6 1/°С;

•     максимальное напряжение — 50 В.

Соединения резисторов в наборах могут быть в виде отдельных рези­сторов (А), с общим выводом (Б), по схеме делителя напряжения (В) и дру­гих вариантов (рис. 14.25).

К поверхностно монтируемым наборам резисторов относятся резисторы с планарно расположенными выводами.  

 

Самыми массовыми керметными наборами резисторов являются чип — наборы резисторов.

Чип-наборы резисторов изготавливаются на керамических платах раз­мерных рядов 0201, 0402, 0603, 0805, 1206, 1210, 2010, 2512. В габаритах размерных рядов 0201, 0402, 0603, 0805 изготавливаются наборы с 2, 4 и 8 резисторами. Наборы больших габаритных размеров, начиная с 1206, обычно содержат 8 или 15 резисторов. Диапазон сопротивлений резисто­ров в наборе изменяется от 10 до 106 Ом, по специальным требованиям могут изготавливаться низкоомные наборы резисторов с сопротивлением до 10...20 мОм. Стандартная стабильность сопротивления резисторов в на­боре 2...5%.

Традиционно наборы резисторов для объемного монтажа выпускаются в SIP или DIP корпусах.

Практически все резистивные компоненты выпускаются в блистерленте, что обеспечивает их автоматизированную сборку в процессе изготовле­ния плат для электронных приборов.

 

14.2.3. Металлофольговые резисторы и наборы резисторов

 

Первые отечественные металлофольговые резисторы разработал Уман-цев B.C. [13, 14]. Назывались они печатными и сразу нашли широкое применение в измерительных приборах. Ф. Зандман запатентовал метод соединения металлической фольги и керамической подложки, разработал и организовал и производство большого количества металлофольговых ре­зисторов по технологии, названной Bulk Ме1ал Foil (BMF), в своей все­мирно известной фирме Vishay США. В рекламной статье [15] приводятся сравнительные данные параметров фольговых, тонко- и толстопленочных резисторов, по которым ТКС фольгофых резисторов достигает 0,05 х10 -6, что лучше ТКС тонкопленочных в 100 раз, а толстопленочных — в 2000 раз; временная стабильность сопротивления лучше в 50 и 800 раз, точность из­готовления — в 50 и 1000 раз, соответственно.

В общем виде металлофольговый резистор представляет собой резистив-ный элемент — тонкую металлургическую фольгу толщиной 2—10 мкм,

 

 

приклеенную к диэлектрическому основанию (обычно это керамика). Ме­тодом фотолитографии формируется специальная топология резистивного элемента, обеспечивающая получение заданного значения номинального сопротивления. Резистивный элемент герметизируется в металлическом или опрессованном корпусе для исключения влияния внешнего воздей­ствия на параметры резисторов. Подключение резисторов в схему осущест­вляется с помощью мощных электрических выводов, которые обеспечивают дополнительный теплоотвод. Для уменьшения механических воздействий на электрические характеристики резистивный элемент помещается в спе­циальную демпфирующую силиконовую оболочку (рис. 14.26).

Достижение высоких эксплуатационных характеристик этих резисторов и, прежде всего, низкого температурного коэффициента сопротивления (ТКС), обеспечивается за счет принципа термокомпенсации, который свя­зан с тензорезистивным эффектом, возникающим в системе резистивный материал — подложка из-за различия их температурных коэффициентов линейного расширения (ТКЛР).

Температурные зависимости металлофольговых резисторов фирмы Vi-shay на основе различных сплавов с различными значениями ТКС приве­дены на рис. 14.27 резистивная отечественная фольга из сплава НМ23ХЮ имеет ТКСр на уровне минус 2,5х10 -8 °С -2, что обеспечивает в отечествен­ных резисторах, например, в резисторах типа Р2-67, минимальный ТКС ±2,5х10 -6 0С-1 в рабочем диапазоне температур —60...125 °С.

Обеспечение высокой временной стабильности при воздействии усло­вий эксплуатации резистора достигается за счет использования прецизион­ных металлических резистивных сплавов в виде резистивной микронной фольги, так и за счет различных режимов старения и термоэлектротрени-ровки, которые приводят структуру резистивного материала и сложную гетерогенную конструкцию резистора в квазистабильное состояние.

Отличительной характерной особенностью металлофольговых резисто­ров является возможность сколь угодно точной подгонки номинального

 

 

сопротивления. Точность подгонки номинального сопротивления метал-лофольговых резисторов практически определяется уровнем метрологиче­ского обеспечения.

Возможность получения заданной величины номинального сопротив­ления обеспечивается специфической топологической схемой резистивного элемента, которая содержит как основные, грубые подгоночные секции, так и дополнительные тонкие подгоночные секции, которые позволяют осуществлять подгонку резистора от нескольких процентов до тысячных долей процента. Подгонка осуществляется методом отсечения секций, в результате секция исключается из процесса проводимости. Такая тополо­гическая схема позволяет осуществлять подгонку как в процессе изготов­ления резисторов, так и непосредственно на печатной плате при использо­вании чип-резисторов.

Металлофольговые резисторы имеют самый низкий уровень токовых шумов по сравнению с другими резисторами, низкое значение термоЭДС по отношению к меди и практические постоянное значение коэффициента напряжения.

Все перечисленные достоинства позволяют на основе данной техно­логии разрабатывать уникальные резисторы и резисторные компоненты, которые невозможно реализовать, используя другие технологии.

В России единственным предприятием, которое владеет технологией про­изводства и выпускает металлофольговые резисторы, является НИИЭМП. По величине температурного коэффициента сопротивления отечественные резисторы находятся на уровне резисторов фирмы Vishay из сплава С и усту­пают резисторам из сплавов К и Z. По временной стабильности сопротив­ления отечественные резисторы типа Р2-67 находятся на уровне лучших резисторов фирмы Vishay. Достижение суперстабильности обеспечивается за счет специальных технологических приемов их изготовления.

 

14.2.3.1. Постоянные металлофольговые резисторы

 

С использованием металофольговой технологии изготавливаются посто­янные суперпрецизионные резисторы различного конструктивного испол­нения. Для автоматизированного поверхностного монтажа используются металлофольговые чип-резисторы, габаритные размеры которых соответ­ствуют чип-резисторам серий 1206 и 1506.

Характеристики металлофольговых чип-резисторов серии 1206 и 1506 следующие:

К классу чип-резисторов относятся и металлофольговые датчики тока для автоматизированного монтажа.

Уровень параметров датчиков тока следующий:

•     диапазон сопротивлений 2...200 мОм;

•     температурный коэффициент сопротивления +15x10 -6 0С-1 в диа­пазоне температур минус —55—+125 "С;

•     стабильность сопротивления при номинальной электрической на­грузке 0,1%.

Сопротивление суперпрецизионных резисторов обычно не превышает 150 кОм, а по особому заказу может достигать величины 300 кОм.

Для исключения влияния подводящих проводов и соединительных ли­ний на величину сопротивления металлофольгового датчика тока, сопро­тивление которого обычно не превышает 100...500 Ом, в изделиях реализу­ется четырехвыводная схема: два токовых и два потенциальных вывода.

Мощность металлофольговых датчиков тока достигает 10 Вт при темпе­ратурном коэффициенте сопротивления ±2х10 -6 0С-1  в температурном ин­тервале —55—+125 0С и временной стабильности сопротивления до +0,01% при температуре 25 °С и номинальной электрической мощности.

 

14.2.3.2. Металлофольговые наборы резисторов

 

Элементы набора резисторов и их внутренние и наружные соединения фор­мируются в едином технологическом цикле, они имеют исчезающий малый разброс параметров в наборе, это особенно важно, когда они используют­ся в качестве делителей напряжения или резистивных сеток типа R/2R. Если абсолютное значение температурного коэффициента сопротивления резисторов обычно составляет ±(0,2...2)х10 -6 0С-1 , то температурный коэф­фициент отношения обычно при этом не превышает ±(0,05...0,1)х10 -6 0С-1  (т. е. изменения меньше одного ppm).

С использованием металофольговой технологии изготавливаются уни­кальные наборы резисторов с различными схемными решениями соеди­нения резисторов в наборе, в частности делители напряжения для вход­ных и выходных цепей, резистивные сетки типа R/2R в цифроаналоговых и аналогоцифровых гибридных интегральных микросхемах и т. д.

Наборы металлофольговых резисторов изготавливаются в различных конструктивных исполнениях. Это чип-резисторы и чип-наборы, в том числе и в корпусах типа SON, корпусированные наборы для поверхностно­го монтажа в корпусах типа SOT и другие. Для объемного монтажа выпу­скаются наборы резисторов в корпусах типа SIP, DIP и корпусах на «нож­ках», используемых при производстве полупроводниковых микросхем.

 

14.2.4. Тонкопленочные резисторы и наборы резисторов

 

Тонкопленочные резисторы (ТПР) прочно удерживают свою нишу рынка в производстве резисторов и в целом радиокомпонентов благодаря своим высоким электрическим и эксплуатационным характеристикам и совме­стимостью с конструктивным исполнением и технологией монтажа полу­проводниковых микросхем. Они отвечают растущим требованиям рынка на пассивные компоненты с более жесткими техническими условиями экс­плуатации, особенно в сфере цифровой техники, высокочастотной аппара­туры и цифро-аналогового преобразования сигналов.

 

 

Тонкопленочные резисторы нельзя отнести к резисторам широкого применения из-за достаточно высокой стоимости, обусловленной высо­кими затратами в производстве и                                                                                                                                                                                                                                                                                           производство сосредото­ченно в основном на ограниченном количестве высокооснащенных фирм, занимающих обычно ведущее место в производстве резистивных компо­нентов в целом. Среди зарубежных к ним следует отнести Vishay, Bourns Corporation, (США), Yageo, (Тайвань). На отечественном рынке домини­рующее положение занимают ФГУП «НИИЭМП», г. Пенза по корпусным тонкопленочным резисторам и наборам резисторов и ОАО «ОКБ <<Икар» и ОАО «Резистор-НН», г. Н.-Новгород по дискретным и чип-резисторам.

В табл. 14.2 представлены лучшие параметры корпусных, а в табл. 14.3 бескорпусных ТПР и их наборов, выпускаемых зарубежными и отечествен­ными фирмами.

Для сравнения приведены лучшие параметры зарубежных фольго­вых резисторов, которые обладают наиболее высокими из достигнутых в резисторостроении электрическими параметрами. Как можно заметить,

 

 

 

отечественная тонкопленочная технология корпусированных изделий показывает временную и температурную стабильность сопротивления, сравнимую со значениями зарубежных изделий. Следует отметить, что тонкопленочные резисторы обладают малыми токовыми шумами — 0,01— 0,05 мкВ/В, что приближает их по этому параметру к фольговым и прово­лочным резисторам.

Тонкопленочные резисторы изготавливаются методом вакуумного осаж­дения, термическим, ионно-плазменным или каким-либо другим способом резистивного и контактного материала на диэлектрическую подложку.

Конструктивно чип-тонкопленочные резисторы выполняются по по­добию толстопленочных (рис. 14.28), в исполнении типа SON и в испол­нении с прямоугольной подложкой и стандартными размерами — 0201, 0402, 0603, 0805, 1206, 1210, 2512. Корпусные ТПР выполняются в боль­шинстве случаев в DIP, SIP, SOUC, SOT, LCC, QCC и других пластмассо­вых (рис. 14.29, а), металлостеклянных и металлокерамических корпусах (рис. 14.29, б, в, г) различного конструктивного исполнения, различным расположением выводов и их конструкций, шагом выводов. Следуя тен­денции микроминиатюризации, тонкопленочные резисторы выполняют­ся также в безвыводных корпусах, в корпусах с выводами в виде «крыла чайки», у-образными и другими формами выводов. Как правило, шаг вы­водов составляет 0,5; 0,625; 1,0; 1,25 мм. — для корпусов с пленарным расположением выводов и 2,5 мм. — для корпусов со штырьковым рас­положением выводов для отечественных и 0,5; 0,635; 1,27- и 2,54 мм для зарубежных изделий.

Для поверхностного монтажа для особостабильных ТПР в последнее время используются QLCC, DLCC, SLCC — безвыводные металлокерами-ческие корпуса с прогрессивными concave (скругленные углубления) кон­тактами (рис. 14.29, г). ТПР особо высокой точности выполняются только в металлостеклянных или металлокерамических полых корпусах, обла-

 

 

 

дающих высокой герметичностью (рис. 14.29, б, в, г). Тип корпуса обычно выбирается в зависимости от требований к стойкости и внешним воздей­ствующим факторам (ВВФ) и требованиям к электрическим параметрам. Пластмассовые корпуса обычно дешевы, но с их применением сложно обе­спечить высокие требования по электрическим параметрам и стойкости, особенно к климатическим факторам. Металлостеклянные и особенно ме­талл окерамические корпуса дороги, но они обеспечивают максимальную стойкость ко всем ВВФ и возможность получения наивысших результатов по электрическим характеристикам — точности, временной и температур-

 

ной стабильности, наработке. Основные составляющие конструкции ТПР изображены схематично на (рис. 14.30).

Сопротивление выводов и токопроводящих перемычек, соединяющих вывода корпуса (или контактные площадки корпуса) с контактными пло­щадками ТПР, имеют конечное сопротивление и ухудшают параметры самого резистора, особенно низкоомных. Для исключения их влияния обычно используют 4-выводную схему включения ТПР с двумя токовыми и двумя потенциальными выводами (резистор Кельвина).

Необходимо отметить, что в корпусном исполнении, как правило, из­готавливается группа или набор резисторов. Схемотехнические исполне­ния резисторов в резисторных наборах могут быть самыми разнообразны­ми: двоичные (рис. 14.31, а, б) и двоично-десятичные резистивные сетки (рис. 14.31, в), «звездообразные» схемы (рис. 14.31, г), делители напряжения или схемы отношения (рис. 14.31, д, ё). Для обеспечения выходных характе­ристик наборов резисторов требуется высокоточное взаимное согласование входящих в схему резисторов по ТКС и временной стабильности сопро­тивления.

Отличительной особенностью ТПР и схем на их основе является со­четание высоких электрических параметров с микроминиатюрным испол­нением. Эти требования находятся в некотором противоречии, поскольку одним из основным параметров любого резистора является мощность рас­сеяния, приводящая к джоулевому нагреву, а микроминиатюризация уве­личивает удельную мощность рассеяния и тем самым джоулевый нагрев. При этом из-за наличия температурного коэффициента сопротивления по­является дополнительное отклонение сопротивления ТПР.

В настоящее время только тонкопленочные резисторы обеспечивают возможность создания в малом объеме высокоточных интегрированных функциональных резистивных схем с большим количеством резисторов и широким диапазоном сопротивлений.

В заключение следует отметить задачи, стоящие перед резистивной от­раслью промышленности. Они сводятся к разработке и освоению в про­изводстве новых изделий с повышенными удельными характеристиками, с высокой точностью сопротивления, низким ТКС, высокой стабильностью, повышенной эксплуатационной надежностью, расширенным диапазоном сопротивлений, большим (150 тыс. ч и выше) сроком службы, резисто­ров и наборов резисторов со специальными характеристиками. Эти задачи могут быть выполнены при создании новых материалов — резистивных, проводящих и покровных паст, проволок и фолы микронных размеров, конструкционных материалов, керамических плат и корпусов и др.

 

Литература

 

[I]   Бочкарев Б. А. Вопросы технологии изготовления тонкослойных непро­волочных сопротивлений, изд. Московские дома научно-технической пропаганды им. Ф. Э. Дзержинского, М., 1958.

[2]   Гальперин Б. С. Непроволочное сопротивление, М., Госэнергоиздат,

1958.

[3]   Мартюшов К. И., Зайцев Ю.В. Резисторы. М., «Энергия», 1966 г. [4]   Зайцев Ю.В. Переменные резисторы. М., «Энергия», 1974. [5]   Гребенкина В. Г. и др. Объемные резисторы. Киев: Наукова думка,

1976. [6]   Мартюшов К. И. и др. Прецизионные непроволочные резисторы. М.,

«Энергия», 1979. [7]  Недорезов В. Г. Керметные толстопленочные резистивные материалы.

Пенза ГУ, Инф.-изд. Центр, 2002.

[8]   Недорезов В. Г. Технология керметных резистивных структур и компо­ненты на их основе. Пенза, НИИ ПГУ, 2005.

[9]   Искаков Б. М., Недорезов В. Г. Резистивные материалы: нихромы и керметы. Алматы, 2006. [10] Недорезов В. Г. Резисторы и резистивные компоненты // Электронные

компоненты. № 4. 2005. С. 29—31.

[11]   Недорезов В. Г. Подстроечные керметные резисторы. Ч. 2 // Электрон­ные компоненты. № 6. 2005. С. 132—134.    

[12] Недорезов В. Г. Наборы керметных резисторов. Ч. 3 // Электронные компоненты. № 9. 2005. С. 118—121.

[13] Уманцев B.C. Печатное сопротивление. А.с. №201529. Бюл. изобр., 1967. № 18.

[14] Прецизионные печатные и тонкопленочные резисторы / Тез. докладов конференции по технологии приборостроения (май, 1972) Кишинев, 1972.

[15] Б. Ключников, К. Калаев // Электронные компоненты. № 2, 2007.

[16] Зайцев Ю. В. Переменные резисторы. М., Энергия. 1974.

[17] Мартюшов К.И., Зайцев Ю.В. Резисторы. М., «Энергия». 1966.

[18] Иванов Д. М., Стальбовский В. В., Четвертков И. И. Переменные рези­сторы. М., «Радио и связь», 1981.

[19] М.Т. Железное и др. Проволочные резисторы. М., «Энергия», 1970.